(ai雲資訊消息)智能手機晶元組通過真空腔均熱板散熱技術已得到有效控制,但局限也日益凸顯。像第五代驍龍8至尊版系統級晶元(soc)為了達到更高的頻率以獲得更優異的單核與多核性能,卻以隨之攀升的發熱為代價。
2026年,高通預計將推出第六代驍龍8至尊版pro與第六代驍龍8至尊版。得益於台積電新一代2納米n2p製程工藝的加持,這兩款晶元有望實現更高運行頻率,但同樣將觸及既有的散熱性能瓶頸。
據報道,高通或將推出兩個版本,其中第六代驍龍8至尊版pro憑藉更高規格調校的性能核心有望實現更卓越表現,同時還將支持lpddr6內存與ufs 5.0存儲等升級方案。
第六代驍龍8至尊版pro的主頻或許將達到5.0ghz,而目前第五代驍龍8至尊版性能核心頻率已達4.61ghz,這樣新一代晶元的突破更顯值得期待。
即將發布的galaxy s26系列可能搭載的版本,其主頻有望提升至4.74ghz。隨著高通旗艦晶元逐步逼近5.00ghz頻率大關,第六代驍龍8至尊版pro很可能成為首款觸及該里程碑的晶元平台。那麼這款系統級晶元如何實現此項突破,或許會應用三星heat pass block(hpb)散熱技術。
該散熱技術與三星exynos 2600所用方案是同樣的,散熱效能提升非常顯著,足以讓第六代驍龍8至尊版pro在實現5.0ghz高頻運行的同時,將性能衰減控制在極低水平。而蘋果向來側重能效優化與架構革新,而非單純追求峰值性能,預計a20與a20 pro晶元主頻將不會達到5.0ghz。