華為鴻蒙HarmonyOS 6.0.0(20)Beta5開發者版本發布

IT之家 9 月 15 日消息，華為鴻蒙 HarmonyOS 6.0.0 (20) Beta5 開發者版本今日發布，新版本在 5.1.1 (19) 版本基礎上，進一步增強 ArkUI 組件能力，新增多個系統組件並優化多個組件調用細節等；ArkWeb 的 Chromium 內核升級至 132 版本，ArkWeb 能力增強；新增端側問答模型，支持端側的智能問答，新增智慧化數據檢索 C API，支持向量化、知識檢索和知識問答的能力；地圖能力新增矢量圖層、流場圖層、海量點圖層、熱力圖層，支持通過自定義組件生成 marker 圖標等等。

另外，DevEco Studio 新增 AI 智能輔助編程，進一步提升編譯構建效率和優化內存佔用，ArkUI Inspector 新增支持按照組件粒度 3D 展開應用，方便查看組件之間的嵌套、遮擋關係，智慧調優能力新增支持對 Allocation 內存分配問題和 Snapshot 內存堆快照問題進行分析。

IT之家附華為鴻蒙 HarmonyOS 6.0.0 (20) Beta5 開發者版本關鍵特性如下：

AppGallery Kit

• 應用市場更新功能新增支持 Wearable 設備。

App Linking Kit

• 新增支持通過聚合鏈接按指定方式跳轉至應用，例如跳轉至 HarmonyOS 平台預覽頁、應用市場詳情頁、自定義網址、深度鏈接地址等。

ArkUI

• C API 新增提供渲染節點的能力。

Camera Kit

• 新增支持對微距狀態變化事件的監聽。

Media Kit

• 新增支持通過 C API 設置捕獲圖像在目標區域的填充模式。

DevEco Studio 6.0.0 Beta5（6.0.0.848）新增和增強特性如下：

開發環境搭建

• 元服務工程支持 Car 設備開發。

• 新建元服務工程時，支持在 DevEco Studio 頁面內註冊新的元服務 App ID。

• 新增 OpenHarmony 開源中心倉（OHPM Index）入口，幫助開發者高效篩選和管理三方庫。

使用 AI 智能輔助編程

• 智能問答新增添加本地的知識庫，並根據知識庫進行指定風格的上下文問答功能。

• 新增生成意圖裝飾器和添加意圖插件能力，以及 DevEco Studio 新增內嵌的小藝智能平台。

編寫與調試應用

• 新增支持測試 C++ 代碼，對 C++ 代碼進行覆蓋率統計。

• 自動簽名新增關聯註冊應用進行簽名的功能。

• Code Linter 新增 6 條檢查規則。

變更特性

• 在預覽器中使用文件管理相關的 API 時，僅支持預覽 / 預覽調試 Stage 模型的 HAP / HSP，並且需要先打開 Enable file operation 開關。

6.0.0 (20) Beta5 開發者套件配套信息