光刻機三巨頭之一的日本尼康，爆雷了！根據最新財報預測，尼康在2025財年預計虧損850億日元，摺合人民幣36.8億元，這不僅創下了公司歷史上的最大虧損紀錄，更像是一記響亮的耳光，打在了曾經驕傲的日本半導體臉上。
尼康這牌子，在老一輩攝影師眼裡是神，在半導體人眼裡，曾經也是神。1980–2000年前後，是它統治全球的黃金時代，光刻機全球市佔率長期超50%，與佳能合計佔據70%–80%，徹底取代美國gca成為絕對主導。
那會兒的尼康，有多狂？當年的媒體形容它是：全球光刻機半壁江山、不可撼動的霸主。但風水輪流轉，現在的尼康什麼狀況呢？2025財年，尼康光刻機銷量，包括二手翻新在內僅有29台，而且這29台幾乎全是28nm及以上成熟製程的「老古董」，根本碰不到7nm、5nm這些先進位程的邊。
反觀曾經的追趕者，荷蘭阿斯麥，光是代表最頂尖技術的全新euv光刻機，就賣了48台，一台2億多美元，頂配4億美元，全世界只有阿斯麥能造。咱國內晶元廠最缺、搶著要的中高端duv也賣了279台，合計同期出貨新機總量，高達327台。
而同為日企的佳能呢？這個「三巨頭」中的中間派，憑藉低價的i-line和krf光刻機，在功率器件、感測器、顯示驅動、先進封裝等利基市場活得滋潤。同時發力面板曝光設備，2025年全球fpd光刻機市佔率超60%，穩居第一，長期壟斷面板曝光市場。
從巔峰跌落谷底，尼康到底做錯了什麼？先從技術角度看，尼康的困局，源於二十年前的一次「戰略誤判」，早在2000年代初，光刻機技術面臨路線抉擇，是押注台積電林本堅提出的浸沒式方案，還是深耕自身擅長的157nm乾式duv，尼康選擇了後者。
結果呢？2004年，阿斯麥浸沒式光刻機橫空出世，憑藉更高的精度和更低的成本，開啟市場反超。2007年，市佔率突破60%，首次形成碾壓態勢，確立絕對主導地位。2010年後，阿斯麥市佔率突破70%，尼康、佳能被徹底拉開差距。
到2018年，台積電宣布7nm製程量產時，duv已無法很好滿足精度、良率、成本要求，阿斯麥憑藉euv壟斷了全球90%的高端光刻機訂單，形成「沒有替代品」的技術霸權。而尼康呢？又因啟動晚、生態弱、自研失敗，徹底退出先進位程，只能退守成熟duv市場。
如果說技術失誤還只是內因，那麼市場環境的劇變，則是壓垮尼康的最後一根稻草。過去五年，中國曾是尼康最大的「救命稻草」，隨著中芯國際、華虹半導體等晶圓廠擴產，尼康精密設備對華銷量佔比一度超過40%。
但這種依賴性埋下了巨大隱患，中國客戶採購尼康設備的核心訴求是「國產替代前的過渡方案」，而非長期綁定，當上海微電子的ssa800系列duv光刻機，實現28nm工藝突破時，國產方案逐步出現在新建成熟製程產線。
而更致命的，是地緣政治因素，美國對華半導體出口管制政策，日本2023年7月起也執行的半導體設備出口管制，直接卡死其先進 duv光刻機，並波及技術服務、備件、配套設備，成熟duv與非光刻設備則有條件放行。
尼康最終陷入「兩頭受氣」的絕境，高端打不過阿斯麥，中低端出口難度又顯著上升。它的崩塌，不是一家企業的失敗，更是整個日本半導體產業的未來。
