台積電介紹其CFET晶體管技術:已進入實驗室,距離量產仍很遙遠

2023年05月28日00:35:11 熱門 1410

近日英特爾比利時安特衛普舉行的ITF World 2023上,概述了幾個關鍵領域的最新發展,其中之一便是英特爾未來將採用的堆疊式CFET晶體管架構。作為現階段半導體製造技術的龍頭,台積電TSMC)也在2023歐洲技術研討會活動中,介紹了其未來的GAAFET及CFET晶體管技術。

據AnanadTech報道,台積電透露其CFET晶體管已經進入到實驗室,正在進行性能、效率和密度的測試,與GAAFET相比,這幾方面都會更有優勢。不過CFET需要一些額外的製造步驟,才能使晶元按預期工作。CFET晶體管將n和p兩種MOS器件相互堆疊在一起,需要使用高精度和高功率的High-NA EUV光刻機來製造。

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台積電正在研究各種晶體管設計類型,這些研究項目需要很長時間,而CFET技術可能是未來最有可能的候選之一,不過現階段不能說已經超越Nanosheet,而且CFET晶體管需要將新材料整合到製造過程中,從而導致對應的製程節點需要更大的投資。唯一肯定的是,台積電在2nm工藝起會引入GAAFET晶體管技術。

台積電使用FinFET晶體管已經有十年了,期間經歷了五代工藝,正常來說GAAFET晶體管應該也會使用幾代產品,至於CFET晶體管距離大規模量產仍然很遙遠。

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