近日，国际半导体设备公司排名公布。在TOP 15中来自美日的企业，便占据了15席，反映出美日企业对半导体设备领域的垄断。这让我国芯片制造业的关键，掌握在他国手中。
不过，近年来中国大陆企业厚积薄发，逐渐展露头角。去胶设备、刻蚀设备等，国产化率已经超过20%。其中，刻蚀设备的突破尤为关键。
刻蚀机的重要性
光刻、刻蚀与沉积，是芯片制造的三大关键工序，要完成这三大工序，分别要用到光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备这三大关键设备。刻蚀机的重要性不亚于光刻机。
光刻机将电路结构复制到硅片上之后，便轮到刻蚀机大展身手。刻蚀机要对硅片上的电路结构进行微雕，这需要极大的精准度，才能让线路可以安置进雕刻出的沟槽与接触点之中。
据悉，14nm制程需要64次刻蚀步骤，而7nm则直接飙升至140余次。由此不难看出，生产刻蚀机的技术难度之大以及工艺之繁杂。越先进的刻蚀机，攻克难度自然也成倍上升。
刻蚀机行业现状
目前全球刻蚀机市场仍处于寡头垄断的境况，其中泛林半导体、应用材料与东京电子三家，便垄断了该领域94%的份额，只留给其他企业无数不多的市场。
为打破这一境况，近年来我国涌现出中微半导体、北方华创等优秀的刻蚀设备企业。其中，作为当前国内唯一14nm及以下先进制程验证通过刻蚀企业的中微半导体，表现尤为出众。
国产蚀刻机的崛起
中微半导体成立于2004年，是我国高端半导体加工设备企业领头羊。在全球刻蚀机大拿尹志尧的带领下，中微半导体突飞猛进。
尹志尧曾在英特尔、应用材料等国际巨头任职，相关经验丰富。与他同时回国的还有其精英团队。彼时，尹志尧仅凭一年5000万美元的研究资金，成功制造出中国大陆首台等离子刻蚀机。
最终，中微半导体用时11年从65nm攻克5nm，便追上了国际的脚步，并获得了众多客户的青睐。
台积电、中芯国际、海力士、长江存储等巨头，都已成为中微半导体的客户，在这些企业的IC加工制造生产线、先进封装工艺生产线中，都能看到中微等离子体刻蚀设备的身影。
中微半导体的5nm刻蚀机更是将用在台积电5nm制程生产线上。可以看出，中微的产品已经获得了大众的认可。
据悉，中微半导体刻蚀设备的全球市占率，已经达到1.4%左右，在国际上逐渐崭露头角。而且，中微半导体的部分技术水平与应用领域，已经是国际先进水平，实力强大。
中微半导体的崛起，令海外刻蚀机企业产生了危机感。受此影响，2015年，美国将持续多年的对我国等离子体刻蚀设备出口管制取消，以此与中微半导体抢占中国刻蚀机市场。
国产刻蚀机未来潜力
2019年，半导体设备市场呈现出下滑趋势，但刻蚀设备仍旧保持增长。并且，随着半导体行情的回暖，以及我国芯片产业迈入高速发展阶段，我国刻蚀设备市场拥有强大的发展潜力。据SEMI预测，今年我国半导体设备市场将增至173亿美元。
这都给中微半导体，带来了不错的发展机会。今年上半年，中微净利润便同比大增291.98%，实现1.19亿元。
同时，近来中微半导体拟定增资不超过100亿元。这些资金，将被用于产业化基地项目、科技储备资金等，有助于进一步扩大公司规模，增强公司实力。
中微半导体未来可期。
文/BU 审核/子扬 校正/知秋
