台積電購買ASML的High-NA EUV光刻機，目標是在2025年量產2納米製程工藝。英特爾同樣也已下單，美國發佈公告，已推出世界上最高解析度的光刻系統，使用電子束光刻方式，可以製造出0.7納米晶片