ASML成功秘訣：美國EUV LLC聯盟扶植ASML，力壓尼康

【ASML成功秘訣：美國EUV LLC聯盟扶植ASML，力壓尼康！】

ASML的成功離不開兩件事情：

第一件：當193納米光源突破後，再次向157納米光源攻關技術時，遇到了技術瓶頸。當時台積電的林本堅工程師提出了基於「水能使光的波長縮短」原理，不用傳統的乾式光刻機，而是用沉浸式光刻。也就是用193納米的光源，經過水介質後，經過折射改變波長，可得到157納米的波長。

在其它光刻機企業都排斥這個方案時，ASML接受了。2004年，ASML製造出了第一台浸潤式光刻機樣機，力壓尼康。

第二件：ASML加入「光刻機聯盟」。在同時期，為了突破光刻技術。美國能源部牽頭和英特爾、摩托羅拉、AMD、IBM等企業一是成立EUV LLC聯盟。押注極紫外光技術。能源部旗下的勞倫斯利弗莫爾、桑迪亞和勞倫斯伯克利三大實驗室更是彙集了多個領域的技術，包含物理、化學、核武器、半導體產業、超級計算……等等領域。

光刻機的光源系統突破後，依然需要企業把它應用於產品。美國在尼康和ASML中，認為尼康吸取了精良技術後，未來將壓過美國。最終只讓ASML加入LLC聯盟。

當然，美國也不會只有單純讓ASML加入EUV LLC 聯盟。ASML必須在美國建立工廠和研發中心外，還要保證未來55%的配件都需要從美國採購。並且定期接受美國監管。

總評：

ASML的成功秘訣多樣化，美國EUV LLC聯盟扶植ASML，力壓尼康，就是其中之一。如今ASML EUV光刻機市場率100%，離不開LLC聯盟的功勞。