提到光刻機，大家的印象中我們的差距還很大。但光刻機其實有前道和後道之分，晶元製造用的是前道光刻機，晶元封裝用的是後道光刻機，我們的差距主要在前道。
後道光刻機上我們的上海微電子已是全球領先水平，但前道光刻機主要被ASML、尼康和佳能三家壟斷，尤其是ASML還壟斷了高端EUV光刻機，如今又開始逆勢而行！
實力到底有多強
光刻機按光源來分類，主要分EUV、DUV、UV三類，相對應的基本上就是高端、中端、低端。EUV可用於7-3nm製程，DUV可用於7-180nm，UV是用於180 nm以上了。
DUV光刻機又分為ArFi、ArF、KrF三類，UV光刻機包括i-Line、h-Line、g-Line等。
從2021年底全球半導體前道光刻機銷售情況就能夠看出，ASML在全球光刻機領域的實力有多強。我們的上海微電子因為前道才到90nm，並不全球銷售，暫時不統計。
從統計數據來看，ASML可謂是一騎絕塵，不愧是光刻機霸主。去年光刻機全球共出貨478台，ASML一家就出貨309台，佔比達到了65%，而尼康為6%，佳能29%。
更厲害的是，ASML佔據了高端EUV的100%市場，中端DUV也是大部分市場，其中ArFi佔比為96%，ArF佔比88%。尼康和佳能出貨中端也不多，主要集中在低端。
由此可以看出，ASML基本上壟斷了中高端光刻機市場，所以近年來才會備受關注。
目標竟然這麼高
近兩年多的全球缺芯問題，讓各大晶圓廠產能即使滿載，也無法滿足需求，於是紛紛開始投資擴產。加上美晶元禁令的影響，各地紛紛開始建廠以提升本土晶元製造。
據相關機構的數據顯示，2022-2025年間，全球將興建41座晶圓廠。這麼多的晶圓廠必然會帶來更大的設備需求，尤其是光刻機，晶元製造過程中必不可少、最為重要。
於是，ASML作為全球光刻機市場最大供應商，表示會逐年提高產能，以滿足需求。
ASML在今年第一季度財報會上披露了光刻機擴產計劃，表示將於2025年實現年出貨90個EUV和600個DUV。然而，今年以來晶元形勢開始下行，從缺芯向過剩轉變。
受這個形勢影響，近段時間十大半導體製造商紛紛下調今年或明年的資本支出，共計達到186億美元。連ASML的最大客戶台積電也不例外，還表示將關閉4台EUV。
於是，近日的第三季度財報會上，ASML表示這個光刻機擴產計劃暫時還不能確定。
背後早已有盤算
沒想到沒過多長時間，ASML在近日召開的投資者日會上，再次宣布了產能提升計劃，預計2025-2026年實現年產能90個EUV和600個DUV，比之前加了個2026年。
這意思基本就是可以延期一年實現這個目標，看來ASML還是受到形勢下行的影響。
這次會上，還明確了NA EUV的產能計劃，預計2027-2028年實現年出貨20個。目標定的確實不小， 2021年全球各種光刻機總量才478台，幾年時間ASML能實現嗎？
ASML之所以會制定這樣的目標，首先是為了贏得投資者的青睞，獲得更大的投資。其次是看好未來的增長趨勢，ASML認為目前下行趨勢是暫時的，長期需求依然看好。
更為重要的是，ASML非常看好大陸市場的增長，未來幾年依然會強勁增長。據SEMI統計，大陸建高晶圓廠的速度全球第一，預計2024年前將建設31座成熟晶圓廠。
這將會帶來相當大的DUV光刻機需求，這恐怕才是ASML擴產DUV的重要原因之一。
前段時間，尼康宣布在2026年前光刻機出貨量提升3倍以上，佳能投資500億日元新建光刻機廠。未來這兩家都想擴大大陸的市場份額，ASML又怎麼會無動於衷呢。
正是因為ASML早就在大陸進行了布局，所以才會逆勢而行，並且底氣十足！不過，這也被外媒認為，ASML是下定決心不顧阻撓堅持出貨DUV了，因此說挑戰開始！
