任正非：光刻機被卡了脖子
電子工程師霍夫曾表示，晶體管是「20世紀最重要的發明」，它的出現，讓電子設備的功耗更低、體積更小，芯片上集成的晶體管越多，性能就越強大。
隨着芯片製程工藝的更新迭代，芯片已進入納米時代，指甲蓋大小的芯片上集成的晶體管數量高達百億。強大的性能，讓芯片成為了絕大多數智能電子產品必不可少的核心組成部分，被業內人士稱之為「工業糧食」。
然而，讓所有人沒想到的是，在我國科技不斷取得重大突破的同時，以美國為首的西方國家開始對我國科技企業實施芯片制裁，企圖為保障本土企業在行業內的話語權。
美國的芯片封鎖，給我國科技企業的發展造成了很大的影響，如華為，由於芯片來源被切斷，現已被逼入一個非常艱難的境地。
華為，國內一家研發實力非常強大的通訊民營企業，經過三十多年的潛心發展，在5G、手機、芯片設計、操作系統等領域都取得了巨大的成就，任一業務都能與美老牌行業巨頭一較高下。
為了絞殺華為，鞏固自己的「科技霸權」，美國在去年5月強行修改世界半導體行業規則，頒發「芯片禁令」，對華為最為薄弱的關節「芯片製造」出手。
「芯片禁令」出台之後，台積電、中芯國際紛紛宣布終止與華為的芯片代工合作，高通、三星、聯發科等芯片供應商也明確表態，在沒有得到美國政府許可的情況下，將不再向華為出售芯片。一瞬間，華為陷入了前所未有的「芯片危機」之中。
華為芯片事件發生後，不少網友紛紛提出質疑：上世紀五六十年代，我國在那樣極其艱難的環境下，都能製造出原子彈，為何現在條件好了，科研人員多了，卻無法製造出指甲蓋大小的芯片呢？
對於這個問題，華為創始人任正非給出了一個非常標準的答案：光刻機被卡了脖子！
「芯片禁令」落地之後，華為牽動了無數國人的心，各大科研機構紛紛表態支持華為，其中，國內9大高校校長聯袂走進華為，與任正非進行了深入交談。在這次交談中，任正非講出了國產芯片的現狀。
任正非表示，國內企業芯片設計能力、芯片製程工藝已達到世界頂級行列，但由於光刻機和化學材料被卡了脖子，導致我們的企業無法獨自製造出高端芯片。
正如任正非所說，華為海思設計的麒麟9000芯片，綜合性能是當今最強的5nm 5G芯片，但由於台積電受限於美國的「芯片禁令」，無法幫助華為代工麒麟9000芯片，而中芯國際苦於沒有EUV光刻機，儘管已經掌握了5nm芯片製程工藝，也無法幫助華為走出芯片困境。可以說，美國的一紙芯片禁令，讓我國看似繁榮的芯片行業打回了原型，國內部分企業也苦於沒有高端芯片，發展受到了很大的限制。
昨日因，今日果
芯片要經過設計、光刻、蝕刻、等離子注入、封測等一系列複雜的工序後，方能被商用，而我國芯片行業的短板就是光刻這一非常重要的環節。
我國擁有那麼優質的半導體企業，為了沒有製造出高端光刻機呢？其實，這是我們自己昨日種下的因，才有了今天的苦果。
華為消費者CEO余承東在去年的國內科技大會上明確表示，國內半導體企業在過去的幾十年里，犯了一個極大的致命錯誤，太過於輕資產的投入，忽視了重資產的重要性，以至於大量的高素質人才太過於集中在芯片設計等輕資產領域，導致重資產領域大量匱乏高素質專業人才。
余承東的評論可謂是一針見血，直接切中要害。
由於眾所周知的原因，我國進入半導體行業較晚，西方國家也為了遏制我國科技的崛起，早在幾十年前就簽訂了《瓦森堡協定》，禁止向我國企業出口高尖端技術。而我國企業為了快速搶佔市場，提升知名度，就將精力放在了輕資產行業。
除此之外，國內企業不敢輕易進入重資產行業還有一個重要的原因，需要投入大量的人力、物力，而國內極度匱乏數學、物理、化學、材料、機械、電器等領域的高端人才，且短時間內無法盈利。
當初由於太過於相信「造不如買，買不如租」這句話，現在被別人「封鎖」後，不得不吞下這枚苦果。
吳漢明：憑藉一個國家的力量，很難造出EUV光刻機
國內企業要想打破美國的芯片封鎖，實現芯片獨立，我們就必須造出EUV光刻機。那麼，我們有沒有能力、幾年能夠製造出EUV光刻機呢？對於這個問題，吳漢明院士給出了一個標準答案。
前不久，吳漢明院士明確表示，EUV光刻機是全球人類智慧的結晶，僅製造EUV光刻機所需要的元器件就高達10萬件，來自全球35個國家的5000多家企業，憑藉一國之力，很難製造出EUV光刻機。
ASML公司EUV光刻機工程師也曾表示，即便是中國拿到了EUV光刻機圖紙，10年之內也造不來。現在吳漢明院士也講出這樣的言論，是長他人志氣，滅自己威風呢？還是煞有其事？要想知道這個問題的答案，我們就必須搞清楚光刻機的工作原理。
EUV光刻機
光刻機與沖洗照片的原理差不多，就是通過利用光源能量、形狀控制等手段，將光束透射刻着事先設計好的集成電路圖的掩模，然後再經過光學補差，最後將線路圖「印」在硅晶圓上。
可以說，只要光刻機的精度足夠高，芯片上就能集成更多的線路圖，從而達到增加晶體管數量，提升芯片性能的目的。
據公開資料顯示，清華大學和中科院分別掌握了製造EUV光刻機的核心技術，已完成了EUV光刻機三分之二的研發工作。完成EUV光刻機的研發工作，也是指日可待。
但是，即便是我們完成了EUV光刻機的研製工作，我們很難在短時間內製造出EUV光刻機，原因無他，主要還是EUV光刻機所需的元器件太多了。
以ASML公司的EUV光刻機為例，它的軸承來自瑞典、閥件來自法國、光學器材來自日本、物鏡來自德國、光源來自美企。
所以，我們要想製造出國產EUV光刻機，就必須製造出EUV光刻機所需的元器件，或者尋找到可以替換美國等不友好企業製造的核心元器件。值得一提的是，至今為止，國內企業的製造的相關元器件，依然沒有走進ASML公司EUV光刻機的供應鏈。可以預見，我國製造EUV光刻機的難度有多大。
寫在最後
隨着美國打壓力度的升級，芯片國產化勢在必行，且國家為此打出了一系列的組合拳，如成立「芯片大學」、打造「東方芯港」、出台大量優惠政策等。
在國家的號召下，國內優質科技企業、科研機構、高校紛紛跑步入場。據相關資料顯示，僅2020年，國內新增的半導體企業超過20000家，累計半導體行業相關企業超過78000家，並且在核心技術的研發上不斷取得重大技術突破。
筆者堅信，在國家的幫助下，國內企業同心協力，科研人員不怕艱難，勇攻技術難關，我國半導體行業的整體水平必定在短時間內得到一個極大的提升，打破美國的芯片封鎖也是指日可待。
