to靶材是什麼材質

氧化銦錫( ITO ) 是由不同比例的銦、錫和氧組成的三元組合物。根據氧含量，它可以被描述為陶瓷或合金。氧化銦錫通常以氧飽和組合物的形式出現。氧飽和組合物非常典型，以至於不飽和組合物被稱為缺氧 ITO。它在薄層中是透明和無色的，而在散裝時它是淡黃色到灰色的。在光譜的紅外區域，它充當類似金屬的鏡子。

銦錫氧化物是最廣泛使用的透明導電氧化物之一，因為它具有導電性和光學透明性，易於沉積為薄膜，並且具有耐濕化學性。與所有透明導電薄膜一樣，必須在導電性和透明度之間做出折衷，因為增加厚度和增加電荷載流子的濃度會增加薄膜的導電性，但會降低其透明度。

銦錫氧化物薄膜最常通過物理氣相沉積法沉積在表面上。通常使用的是電子束蒸發或一系列濺射沉積技術。

ITO和ITO濺射靶材的物質是一樣的，後者實際上是由氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合而成的黑灰色陶瓷半導體。

三種主要的最終用途來自銦金屬、其合金和氧化銦錫 (ITO)。銦用於製造鍺整流器、光電導體和熱敏電阻。它可以蒸發到玻璃上並鍍到金屬上，從而形成與銀製成的鏡子相當的鏡子，但對大氣腐蝕的抵抗力更強。銦和鎵都能夠潤濕清潔玻璃和其他物質以形成氣密密封。

銦半導體化合物用於紅外探測器、高效光伏器件和高速晶體管。銦的最大最終用途是薄膜塗層，例如計算機、遊戲和 CD/DVD 播放器中使用的液晶顯示屏 (LCD)、平板顯示器、太陽能電池和電致發光燈。銦金屬代表了世界經濟的一個小型專業部門，在美國消費的初級金屬價值超過一千萬美元。參與銦生產的兩家美國公司分別是位於紐約尤蒂卡和羅德島普羅維登斯的美國銦公司。

美國最終用途分布包括 49% 的塗料、33% 的低熔點焊料和合金、14% 的電子元件和半導體，而研究和其他占 4% 的其餘部分. 日本通過在其各個行業中使用超過全球產量的 50% 來消耗大部分銦。在過去十年中，日本國內的消費量增長了 1000% 以上。

預計我國在未來幾年增加其出口水平，台灣也可能成為更大的氧化銦錫 (ITO) 進口國，因為它準備生產更多的薄膜晶體管 (TFT)。我國已經擴大了其錫工業，以至於在所有集約化方面，都可以被視為世界領先的生產國和出口國。