it之家 4 月 3 日消息，《日經亞洲》當地時間昨晚報道稱，在日本半導體製造足跡不斷擴張、先進光刻機保有量持續上升的趨勢下，asml 計劃將其駐日維護團隊在未來幾年擴大到當前規模的 5 倍，到 2027 年來到 100 人。
根據it之家的了解，日本境內至少有三個項目將引入 asml 提供的 euv 光刻設備，分別是 rapidus 位於北海道千歲市的 iim 晶圓廠（2nm 邏輯）、美光廣島的內存生產線（1-gamma dram）和台積電日本子公司 jasm 的二期晶圓廠（6/7nm 邏輯）。
而若考慮到 duv 機台，日本的 asml 設備持有規模將進一步提升。更大的當地支持組織能幫助 asml 在日本客戶提出需求的第一時間響應處置，從而減少停機等待時間，降低客戶的損失。
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