ASML麻烦了?英国电子束光刻机,绕过EUV,制造5nm芯片

2025年05月17日18:40:19 财经 4343

众所周知,目前主要的芯片制造方案,均采用的是光刻技术,而光刻技术最重要的就是光刻机。

光刻机领域,ASML一家独占了80%以上的市场份额,特别是最高端的EUV光刻机,全球仅ASML一家能够制造。

而EUV又用于7nm以下的芯片制造,所以说ASML卡住了全球所有先进芯片制造企业的脖子。

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所以一直以来,全球众多的企业,都在想方设法,绕过ASML的封锁,特别是绕过EUV光刻机技术,掌握另外的芯片制造技术,那么全球的芯片设备格局都可能被改写。

事实上,之前也有好几套技术方案,比如日本研究的NIL纳米压印技术,佳能就有推出相关的设备,据说也能用于5nm芯片的制造。

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还有美国之前搞了EBL电子束技术,据称也能够用于5nm及以下芯片的制造。

还有欧洲搞什么DSA自生长技术,还有俄罗斯提出什么X射线方案等,但其真正的可以拿出来公布的进度并不多。除了佳能的NIL方案,据说已经用于实际生产之外,其它的只是传闻。

但是近日,传闻变成了现实,英国南安普敦大学宣布,成功开设了首个分辨率达 5 纳米以下的尖端电子束光刻 (EBL) 中心。

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这种产品,据称可以制造下一代半导体芯片,并且是不需要EUV光刻机的芯片制造技术,据称这也是全球第二个,欧洲首个此类电子束光刻中心。

不过,目前这一代产品,也并不是没有缺点,那就是目前它还只能用于200mm的晶圆,也就是8寸的,要支持300mm也就是12寸的,据称要等到下一代技术才行。

但不可否认的是,一旦这种电子束光刻机大突破,解决了产能、分辨率等等问题之后,ASML的麻烦就来了,到时候ASML就无法一家独大了,那当前的这种局面,肯定会产生巨大的洗牌。

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当然,对于我们而言,表现上来看似乎也是利好,毕竟这么多的产品推出,我们有了更多的选择,但关键是,这些产品和技术都不是中国的,所以就算对方有,也未必会卖给我们,所以我们还是努力加油吧,只有自己有,才能避免被卡脖子。

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