明明是科技、经济、军事实力最强的国家，却总是仰仗技术优势阻挠他人的发展。断供、技术封锁、搞破坏，老美可谓是将“科技霸凌”演绎得淋漓尽致！尤其当中企在半导体、通讯等领域对西方企业形成反超，老美频繁挥舞制裁大棒，一次又一次地将黑手伸向了中企！
面对这种情况，央媒频频呼吁、鼓励中企坚持自主研发、技术创新，CCTV甚至还专门制作了《创新驱动，向世界科技强国阔步前行》的栏目。因为核心技术是买不来、求不来的，尤其反映在芯片行业，这是美国赖以生存的根本，想要实现弯道超车，一定要把创新放在首位。
芯片制造领域，台积电和ASML共同研发出了浸润式光刻机，凭借着技术优势，美资本大力扶持，ASML成了光刻机领域最顶尖的企业，台积电也成了代工领域的“龙头企业”，在过去多年的时间里，两者相互依偎，过得那叫一个滋润。
但是，随着工艺越来越先进，ASML的EUV光刻机技术路线已基本走到尽头，台积电、三星能量产4nm、3nm工艺芯片，究其原因是修改晶体管栅极形态。但如今从两者可怜的3nm良品率不难发现，未来的芯片制造行业，“成本控制”已经成为各晶圆厂的最大挑战，即便现在每进口一台EUV光刻机，就需要上亿美元的投入。
不过，国产芯片制造行业曝光了一项新技术，不仅能打造出先进工艺的芯片，同时制造成本还能有效得到控制。
据报道，中芯国际凭借着SAQP技术，即便不使用EUV光刻机也能打造出10nm工艺芯片的制造。而且有业内人士表示，国产DUV光刻机如果能实现量产，通过SAQP技术，即便没有ASML的EUV光刻机，7nm、5nm制程工艺都能实现自主、可控。
所谓的SAQP，其实就是四重曝光技术。2022年末，美光推出的新款DRAM芯片采用的是美光自主研发的1-Beta制造技术，并没有采用EUV光刻机，同样也是经过多重曝光及应用先进材料后实现的，而采用1-beta技术的芯片，内存密度提升了35%，能效提升了15%，这是技术的一次飞跃。
而对于国内晶圆厂来说，DUV光刻机配合SAQP技术，结合上先进半导体材料，打造一条7nm芯片生产线，难度应该不会太大。尤其当老美试图联合日本、荷兰打压我国14nm生产线，阻挠DUV光刻机的自由出货，国产90nm光刻机，配合SAQP技术，至少能解决成熟工艺芯片的自给自足。
虽然国产DUV光刻机还未实现量产，但消息称上海微电子正在联合国内光源巨头共同解决国产光刻机光源“国产化”的问题，今年国产DUV光刻机有望实现量产。如今中芯国际通过SAQP技术在现有生产线小试牛刀，不少人认为此举是优化多重曝光的能力，待国产DUV光刻机交付，国产7nm芯片生产线会在第一时间投入使用。
可以说ASML、台积电都没料到，国产芯片可以通过这种技术缓解先进设备被卡脖子的局面，也有不少外媒表示：这才是科技创新！就像用简单的食材烹饪营养、美味兼顾的美食一样，用现有的设备与技术，打造出工艺更先进、性能更强、成本更低的芯片。
有人为国产光刻机精度落后而杞人忧天，但小编认为，国产芯片不会因此而停滞不前、败下阵来，国产“芯”技术的曝光，让我们对国产芯片的未来充满了期待！
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