中微半导体设备公司1月8日在上海证券交易所公布一项减持计划，公司创始人尹志尧准备卖掉不超过29万股股票。这部分股份占公司总股本的0.046%，按照1月9日收盘价336.68元来算，价值大约9764万元。
尹志尧在公告里说，这么做是因为他从外籍身份变回中国籍，需要依法处理税务事宜。公司强调，这次减持不会动摇控制权，也不会影响正常运作。尹志尧现在持有415.94万股，占总股本0.664%，这些都是上市前拿到的股份。
尹志尧这次减持从公告后15个交易日开始，持续三个月，用集中竞价方式进行。市场人士觉得，这种减持规模不算大，只占他个人持股的7%左右。考虑到国籍变更带来的税务调整，这更像是个人财务操作，不会伤到公司根基。
中微公司股价在公告后小幅波动，但整体稳住，总市值保持在2108亿元。尹志尧过去一年减持过一次，2025年5月到8月卖了17万股，拿到3121.63万元，那时理由是个人资金需求。
尹志尧职业起步于1984年，在英特尔中心技术开发部当工艺工程师，到1986年。他在那学到半导体制造核心技术，参与工艺集成。1986年跳槽到泛林半导体，从资深工程师干到研发部经理，帮公司开发彩虹号电容性介质刻蚀机，提升了市场竞争力。1991年去应用材料公司，当等离子体刻蚀设备首席技术官，后来升副总裁，管事业群，还负责亚洲技术事务。在硅谷20年，他申请了86项美国专利和200多项国际专利，推动刻蚀技术进步。
2004年，尹志尧带着15人团队回上海浦东创办中微公司，当董事长和总经理。起步时资金有政府支持的5000万元，加上团队150万美元。初期专注等离子体刻蚀设备，2007年推出第一代CCP介质刻蚀机，填补国内空白。这设备用双反应台设计，效率比国际同类高30%。尹志尧带领团队避开专利壁垒，开发原创技术，帮助公司站稳脚跟。
中微公司逐步扩大产品线，2012年出电感性等离子体刻蚀设备Primo nanova，用在14纳米以下工艺。还开发深硅刻蚀设备，针对先进封装和MEMS。2010年起进薄膜沉积领域，推出MOCVD设备，三代产品用于LED和功率器件，市场份额领先。尹志尧推动技术从65纳米覆盖到5纳米，2015年提皮米级精度概念，开发CCP和ICP刻蚀机。
2018年，中微自主刻蚀机进入客户5纳米产线。到2025年，推动MOCVD、LPCVD、ALD、EPI、PEVCD等薄膜设备，ICP双反应台精度到0.1纳米，达到全球先进水平。公司年报显示，尹志尧国籍变化：2022年是美国公民，2023年没提，2024年确认中国籍。2024年6月公告还标美国籍，8月改成中国籍。这变更引发税务需求，导致这次减持。
中微公司2025年前三季度营业收入80.63亿元，同比增长46.4%，净利润12.11亿元，增长32.66%。刻蚀设备收入61.01亿元，薄膜设备4.03亿元。研发花了25.23亿元，占营收31.29%，支持20多款新设备开发。公司申请专利2407项，发明专利超84%。尹志尧获过2018年国际半导体十大领军明星和2020年中国最佳CEO荣誉。
尹志尧在硅谷帮应用材料和泛林成为行业老大，回国后中微成长为全球第四大刻蚀机企业。2023年11月，公司设备用于65到5纳米生产线。公司定位高端设备，覆盖集成电路和泛半导体。尹志尧专注原创设计，与国际客户同步合作，推动国产替代。
