在射频IC设计这个高要求、变化快的领域里，你是不是还在因为改版图熬到眼花？是不是面对无源网络的无尽调试感到心力交瘁？下面四大痛点，你是否中招了？
痛点1：版图迭代耗时，工程师效率受限
在射频毫米波IC设计阶段，大量时间被耗费在版图修改与电磁仿真中。调研数据显示，工程师平均有超过 70% 的设计时间用于射频版图的反复迭代。漫长的迭代周期不仅降低效率，也让创新力被消磨殆尽。
痛点2：电路与无源网络优化脱节
当前的设计流程中，电路与无源网络往往无法协同优化。尽管 Virtuoso 和 ADS 等软件提供原理图优化功能，但 泛化地实现原理图与版图的联动优化依然是难解决的技术瓶颈。
痛点3：复杂无源结构设计难度高
随着射频IC的性能要求提升，复杂无源结构如 三电感、四电感耦合变压器以及非对称变压器越来越多地出现在 ISSCC 和 JSSC 等顶级会议期刊中。这些结构的设计难度高，现有手工方式难以高效且精准地完成。
痛点4：射频IP复用性差
射频IP的跨平台复用性低。一旦切换工艺平台或调整工作频段，射频版图 几乎需要从头迭代设计，导致资源和时间浪费，制约了设计成果的广泛应用和推广。
针对上述射频IC设计中的痛点，广州十方尺科技有限公司推出了 AI 辅助射频IC设计自动化工具——RFI Pro，它能全面覆盖从有源电路到无源版图的协同优化，通过全流程自动化解放工程师的双手！
RFI Pro有什么亮点？
亮点1：AI驱动的版图与原理图协同优化
AI自动生成变量组合、版图更新、仿真迭代，全程无需人工干预。支持实时结果输出，变量、版图信息和目标评分一目了然，让设计流程更加高效透明。
无论是原理图结构、优化变量选择，还是版图结构定义与运动方式选择，都具备极强的泛化能力。支持灵活多样的优化目标，可实现电路级优化，覆盖绝大多数射频 IC 设计需求，让设计过程更加智能高效。
亮点2：全面的版图阅读和修改能力，灵活定义专属Pcell
用户无需编写代码即可创建 Pcell！通过直观的图形界面，在用户提供的初始版图基础上，只需选择运动类型和方向，然后用鼠标点击需要调整的金属，即可轻松自由地定义版图运动。
比如：在R模式下点击一下版图中的金属就可以在下面Interleaved变压器中分两次选中不同的两个电感。（后面就可以一起改半径了！）
RFI Pro内部集成了强大的几何引擎、DRC引擎和LVS引擎，自动避障跳线也不在话下！
亮点3：与Virtuoso以及EMX无缝衔接
为了方便用户使用，整套 RFI Pro 的前端被设计成 Virtuoso 的软件插件。前端界面如下：
所有功能的定义和操作都在一个主界面上，是不是很清晰？保证您能在半小时内快速上手！
以下设计案例展示了如何在手工设计的电流复用LNA整体版图基础上，通过RFI Pro进一步优化输入端的三电感耦合变压器，从而进一步降低电路的噪声系数。
下图给出了优化前和优化后的NF对比，可以看到，最小NF在原本1.63dB的基础上又改善了0.12dB!
关于 RFI Pro 产品和十方尺公司的更多介绍，欢迎访问我们的官网：
www.sephonchitech.com
我们也会在每周日晚上 7 点半，通过微信直播平台准时进行 RFI Pro 软件使用直播，欢迎关注并与我们交流。我们的视频号是：十方尺科技
同时，我们也希望通过这样的方式，让更多朋友了解我们的产品和理念。我们的目标是成为国内最贴近客户需求的 EDA 公司，为每一位 IC 设计师提供高效且贴心的服务。客户的支持是我们不断前行的动力，这也是我们始终坚持的宗旨。
