(ai云资讯消息)智能手机芯片组通过真空腔均热板散热技术已得到有效控制,但局限也日益凸显。像第五代骁龙8至尊版系统级芯片(soc)为了达到更高的频率以获得更优异的单核与多核性能,却以随之攀升的发热为代价。
2026年,高通预计将推出第六代骁龙8至尊版pro与第六代骁龙8至尊版。得益于台积电新一代2纳米n2p制程工艺的加持,这两款芯片有望实现更高运行频率,但同样将触及既有的散热性能瓶颈。
据报道,高通或将推出两个版本,其中第六代骁龙8至尊版pro凭借更高规格调校的性能核心有望实现更卓越表现,同时还将支持lpddr6内存与ufs 5.0存储等升级方案。
第六代骁龙8至尊版pro的主频或许将达到5.0ghz,而目前第五代骁龙8至尊版性能核心频率已达4.61ghz,这样新一代芯片的突破更显值得期待。
即将发布的galaxy s26系列可能搭载的版本,其主频有望提升至4.74ghz。随着高通旗舰芯片逐步逼近5.00ghz频率大关,第六代骁龙8至尊版pro很可能成为首款触及该里程碑的芯片平台。那么这款系统级芯片如何实现此项突破,或许会应用三星heat pass block(hpb)散热技术。
该散热技术与三星exynos 2600所用方案是同样的,散热效能提升非常显著,足以让第六代骁龙8至尊版pro在实现5.0ghz高频运行的同时,将性能衰减控制在极低水平。而苹果向来侧重能效优化与架构革新,而非单纯追求峰值性能,预计a20与a20 pro芯片主频将不会达到5.0ghz。