只差光刻技术了!日媒:中国将成日荷后,第三个造光刻机的国家

相比“两弹一星”这种顶级军工项目,光刻机的技术原理一点也不复杂。理论上我们只需要造出一台可以发射紫外光(波长比紫色可见光更短的光线)的曝光设备,就能将芯片设计图案投影到涂满光刻胶晶圆上面。类比传统胶片摄影的技术路线,光刻机相当于是一个“芯片电路图冲印机”。

说起来容易做起来难,目前全球具备光刻机制造能力的只有荷兰阿斯麦,以及日本的尼康松下,甚至连拥有全球最先进芯片制程的台积电也没有摆脱光刻机“卡脖子”的能力。

《日经亚洲》竟然觉得我国有能力成为全球第三大光刻机生产国,这是怎么回事呢?

一、日媒的预言

7月16日《日经亚洲》发表了一篇题为《中国能造出自己的阿斯麦吗?》的文章,重点分析了我国光刻机行业的现状、未来和挑战。

按照日媒的分析,虽然现在中国各大企业还在大量使用进口中低端光刻机,但是在三大利好因素刺激下中国光刻机取得突破的时机越来越近。

第一,囤货。根据《日经亚洲》提供的数据,2024年我国从阿斯麦进口的设备总额高达89.2亿欧元,中国半导体产业贡献了阿斯麦近四成销售业绩。

在美国持续收紧对华芯片技术管制的同时,近几年我国抢购、囤积半导体设备的力度越来越大,在我国集中精力突破光刻机这道技术难关的过程中,这些储备技术可以充分保障产业发展

第二,断供。包括比尔·盖茨黄仁勋在内的多位美国科技精英,都曾嘲讽过那些天真、无知的白宫决策者。自以为加强对华出口管制就万事大吉的美国政客,无形中为中国自研芯片提供了宝贵的市场空间和利润支持。

7月15日美国财长贝森特在回应“解除H20芯片对华管制”的问题时,明确表示:“中国已经有H20的同类芯片。”显然白宫已经发现断供的危害。

第三,自研。国家集成电路产业投资基金已经发展到第三期,包括上海微电子、宇量升科、新凯来在内的多家国产光刻机研发领军者,都获得了充足的自研经费支持。

从大陆最大芯片代工企业中芯国际的情况来看,虽然DUV光刻机还是以阿斯麦为主,但是在刻蚀、测量等技术流程已经开始大量国产替代。

二、阿斯麦的危机

按理说财报超预期应该会利好股价才对,但是阿斯麦却在7月16日二季度财报公布后一度大跌超过7%。造成这一反常现象的主要原因是2026年的悲观预期。

虽然荷兰官方多次表示半导体出口管制政策不针对任何第三方国家,但是他们却无法否认我国确实受到了更大的影响

现在特朗普一边威胁要对欧盟加征30%关税,一边紧抓对华芯片管制不松手,“关税战贸易战没有赢家”的真理正在阿斯麦身上得到体现。那么,欧盟会不会为了救赎阿斯麦,自作主张放松对华出口呢?这个可能性非常低。

首先,中欧经贸谈判已经接近破裂。7月8日冯德莱恩十分少见地在欧洲议会上大打“中国牌”,这位欧盟政客大谈“过剩产能”“稀土危机”等涉华议题,并且她还着重讨论了中俄贸易对乌克兰危机的影响。最近一段时间里,俄乌战况变得越来越激烈,力挺乌克兰的欧盟根本没心思和我国进行经贸谈判。

其次,欧美关税谈判也会影响欧盟对我国的态度。冯德莱恩已经将原本应该在7月14日生效的“210欧元对美反制清单”,推迟到8月1日执行,这正好和美国准备对欧盟加征30%关税的时间点一致。

深陷乌克兰危机泥潭的欧洲经济离不开对美顺差的财源,冯德莱恩为了讨好特朗普一定会积极配合白宫的对华政策。

话说回来欧盟不放宽阿斯麦对华出口管制反而可以利好我国光刻机自研产业,这种“搬石砸脚”政策只会进一步加剧阿斯麦的生存危机。

三、光刻机的挑战

来自德国夫琅和费集成系统与器件技术研究所的安德烈亚斯·埃尔德曼,长期专注高端光刻技术科研工作。按照这位德国专家的说法,光刻机之所以成为“少数高端玩家”的专利,主要是因为它需要光学、电子、数学等一系列高精尖理工科技术的协同整合。

虽然日媒预测中国迟早会成为全球第三大光刻机生产国,但是我们绝不能忽视自研道路上面临的挑战。

第一,人才短缺。如果把芯片“卡脖子”的难题看成“21世纪两弹一星”,那么我们现在最需要的就是一批像钱学森、邓稼先这样的“功勋”级人才。

7月8日美国参议院命令7所高校全面严查中国公派留学生资料,那些研究“敏感专业”或者毕业后进入“敏感单位”的公派留学生,很难获得相关院校提供的入学手续。

就像当年美国凭借“曼哈顿工程”掌握全球核技术领先优势一样,如今以硅谷为核心的全球半导体产业人才几乎全部集中在美国。相比用“稀土换H20”这种解一时之急的政策,我们更应该用宝贵的关键矿产换出国留学的机会。

第二,政策限制。最近很多网友发现年初非常优秀的DeepSeek,突然变得“大智若愚”了起来,很多时政方面的问题它都回答不了。人工智能大模型是芯片产业最重要的下游需求,只有最大程度解除行业发展限制,才能让我们的国产芯片真正成为生产力工具。

如果监管部门总是像一位不肯撒手的“老母亲”,对新兴行业采取极其严格的限制措施,本该蓬勃发展的科技产业就会变得老气横秋。

结语

“光刻机终将突破”的预言已经说了好多年,想让它成为现实还需要我们作出更多努力。

幸好现在国内、国外的利好因素都比较多,我们的自研企业还有很多可以试错的机会。

那么,你觉得国产光刻机什么时候才能达到阿斯麦的水平呢?欢迎在评论区留言讨论,喜欢我们的文章,麻烦大家点个关注哦!

参考资料:

1.《日媒:中国正努力开发自有光刻技术,囤积阿斯麦设备库存为取得突破赢得了时间》

2.《阿斯麦Q2财报炸裂,股价却暴跌7.41%?2026年增长踩了“急刹车”!》