“中国突破了自主生产先进芯片的障碍！”，最近，《南华早报》发布的一篇报道，公布了一个振奋人心的消息，中国在西方拼命“卡脖子”的光刻机领域，取得了一项重要的研究成果。
据悉，中国科学院上海光学精密机械研究所的研究员林楠，日前带领着一支研究团队，成功建立了一个euv光源实验平台，而且所取得的运行参数，已经达到了国际前列。
而带领团队取得这一研究成果的林楠，曾在荷兰光刻机巨头阿斯麦公司负责光源技术。
2021年，也就是美国逼迫盟友，在芯片领域限制对华出口之时，他毅然选择回国，帮助中国寻求破局之法。
光刻机是制造高精度芯片的关键
更重要的是，这次林楠团队的成果，让最喜欢污蔑中国“偷窃技术”的西方，也无话可说了。
因为，阿斯麦公司采用的是二氧化碳激光驱动技术，而林楠团队却是研究固体激光驱动技术，成功开发出lpp-euv光源。
当然，中国跟西方的差距依旧存在，当前商用二氧化碳激光驱动的euv光源转换效率，大约在5.5%左右，这次林楠团队所研发的固体激光驱动技术，光源转换效率大约在3.42%，大概落后西方四五年。
不过，还记得以前，西方曾讽刺中国大陆的芯片技术，起码落后西方50年，但随着这些年的发展，这个差距在他们口中，慢慢缩减到了20 年、15年，乃至现在开辟新的赛道，再次缩短了与西方的差距。
全球能制造euv光刻机的只有阿斯麦公司
而且，这远不是林楠团队的极限，根据研究过程中印证出的结果，他们认为这次所建的光源实验平台，理论上的最大转换效率可能会接近6%，达到当前阿斯麦公司的商用水准。
面对中国自主研发的成果，阿斯麦公司也倍感压力，他们自然知道林楠的研究水平，所以早早预料到了中国在制造euv光源方面，很可能会迎来成果。
然而，他们的嘴还是很硬的，坚持认为中国哪怕制造出了euv光源，也需要很多年才能制造出先进光刻机。
原因也很简单，euv光刻机作为世界顶级的光刻机设备，想要自主研发制造，不只是要攻克光源技术，比如美国也研究出来了光源技术，但真正能制造出euv光刻机，放眼全世界也只有阿斯麦公司。
美国围堵中国发展
这也是为什么，美国手段频出，也要施压荷兰政府限制阿斯麦公司，不许其对华出售先进光刻机。因为西方相信只要阿斯麦不卖，就能一直在芯片领域，卡住中国的脖子。
只不过，过去的历史一次次证明，美西方越是打压封锁，中国自主创新的脚步就会越快；美西方越是拉拢盟友，中国的朋友圈就会越扩越大。
从航天到民生，从太阳能到芯片，如今，中国在科研领域取得的一道道成果，没有一样不是靠斗争拼出来的。
相信在14亿人的共同努力下，没有困难是打不倒的，没有技术是突破不了的。5年、10年，技术总会迎来突破的那一刻，中国人的奋斗之路，绝不会因为西方的胁迫而动摇。
