可能很多朋友並不了解，芯片產業發展的這幾十年間，發生了很多格局上的變化，例如最初的芯片設計，是需要EDA工具的，所以最初EDA工具提供商只是一個邊緣化的存在，但是隨着芯片集成度的提升，EDA工具已經成了可謂是最上游的企業，沒有EDA工具，芯片研發就幾乎寸步難行。
但很快芯片製造的重要性開始凸顯，直到進入到先進工藝，芯片製造也開始進入芯片產業的中心地帶，而到了7納米工藝，芯片製造設備和材料，也開始進入中心，現在的先進封裝技術，則到了這個階段。
上面我們提到的芯片製造設備和材料，就包括光刻機和光刻膠，沒有質量上乘的光刻膠，芯片也無法完成製造，而光刻膠的使用還是光刻機使用的前一道程序，光刻膠的質量，也直接決定了光刻機曝光後的芯片質量，所以光刻機雖然研發難度很高，可光刻膠也是同樣如此。
根據媒體報道，我國光刻膠企業南大光電方面對外表示，公司的ARF光刻膠產品已經通過兩家企業的驗證，分別是一家存儲芯片製造企業和一家邏輯芯片製造企業，ARF光刻膠，也就是我們所說的「DUV光刻膠」，即DUV光刻機所需要用到的光刻膠。
該光刻膠可以直接支持到7納米工藝芯片的製造，而7納米也是DUV光刻機所被應用的極限工藝，所以我們可以看出，在ARF光刻膠上，我們已經實現了全工藝覆蓋的國產化，打通了DUV光刻機所需光刻膠的通路。
從歷史發展上來看，光刻膠提前做好了技術鋪墊，那麼後續所對應的光刻機的出現就不遠了，實際上，我們國產28納米光刻機，之前就已經有了相關可喜的進展，主要是來自國望光學。
國望光學是我們國產光刻機在曝光系統上的供應商，因為我們現在的國產光刻機已經做到了90納米，所以光源的問題已經解決，另一個關鍵點就是曝光系統，而今年第一季度，國望光學方面先後對潔凈室和製造設備方面發出了招標，並表示將會在該生產基地提供28納米及以下工藝的產品。
這意味着，設備導入階段就會很快到來，我們尚且先不用關心何時會量產，但基本可以確定，我們已經掌握了28納米曝光系統的技術，現在的工作就是為規模量產做準備。以台積電在美建設的5納米工廠為例，其將會12月份進行設備導入，2024年實現量產。
所以這樣對比來看，國望光學走向量產已經指日可待，這也與我們上面提到的，光刻膠之後就是光刻機的歷史發展規律相吻合，因此說ASML繼續供貨做對了，之前老美方面要求ASML在禁止供應EUV光刻機後，也要禁止供應DUV光刻機，遭到了ASML的拒絕。
近日荷蘭方面再次重申了ASML會繼續供貨的決心，ASML方面表示，物理定律在荷蘭和在中國是一樣的，這也就是說，ASML能做到的，中企也能做到，毫無疑問，現在來看，ASML所預測的非常準確，其實不僅是在DUV光刻機，我們在EUV光刻機上也在快速發展。
例如華為剛剛就公布了一項EUV光刻機專利，實際上我們已經擁有了數量很可觀的EUV專利，在努力的不只有華為，中科院上海光機所已經很早就在招聘EUV光刻機方面非常細分的崗位，這表明我們對EUV光刻機已經非常了解，近日對EUV光源方面也在進行招聘。
而南大光電在突破了「DUV光刻膠」後，下一步自然就是突破「EUV光刻膠」，總的來看，我們國產芯片產業正在快速發展，這是之前幾十年所沒有的一種盛況，再提一句，剛剛，我們芯片設計工具EDA在模擬電路等方面實現了全流程覆蓋，對於國產芯片產業的發展，我們越來越有信心了，如果您覺得說得在理，感謝給個點贊和在看。
