相比「兩彈一星」這種頂級軍工項目,光刻機的技術原理一點也不複雜。理論上我們只需要造出一台可以發射紫外光(波長比紫色可見光更短的光線)的曝光設備,就能將芯片設計圖案投影到塗滿光刻膠的晶圓上面。類比傳統膠片攝影的技術路線,光刻機相當於是一個「芯片電路圖沖印機」。

說起來容易做起來難,目前全球具備光刻機製造能力的只有荷蘭的阿斯麥,以及日本的尼康和松下,甚至連擁有全球最先進芯片製程的台積電也沒有擺脫光刻機「卡脖子」的能力。
《日經亞洲》竟然覺得我國有能力成為全球第三大光刻機生產國,這是怎麼回事呢?

一、日媒的預言
7月16日《日經亞洲》發表了一篇題為《中國能造出自己的阿斯麥嗎?》的文章,重點分析了我國光刻機行業的現狀、未來和挑戰。
按照日媒的分析,雖然現在中國各大企業還在大量使用進口中低端光刻機,但是在三大利好因素刺激下中國光刻機取得突破的時機越來越近。

第一,囤貨。根據《日經亞洲》提供的數據,2024年我國從阿斯麥進口的設備總額高達89.2億歐元,中國半導體產業貢獻了阿斯麥近四成銷售業績。
在美國持續收緊對華芯片技術管制的同時,近幾年我國搶購、囤積半導體設備的力度越來越大,在我國集中精力突破光刻機這道技術難關的過程中,這些儲備技術可以充分保障產業發展。

第二,斷供。包括比爾·蓋茨、黃仁勛在內的多位美國科技精英,都曾嘲諷過那些天真、無知的白宮決策者。自以為加強對華出口管制就萬事大吉的美國政客,無形中為中國自研芯片提供了寶貴的市場空間和利潤支持。
7月15日美國財長貝森特在回應「解除H20芯片對華管制」的問題時,明確表示:「中國已經有H20的同類芯片。」顯然白宮已經發現斷供的危害。

第三,自研。國家集成電路產業投資基金已經發展到第三期,包括上海微電子、宇量昇科、新凱來在內的多家國產光刻機研發領軍者,都獲得了充足的自研經費支持。
從大陸最大芯片代工企業中芯國際的情況來看,雖然DUV光刻機還是以阿斯麥為主,但是在刻蝕、測量等技術流程已經開始大量國產替代。

二、阿斯麥的危機
按理說財報超預期應該會利好股價才對,但是阿斯麥卻在7月16日二季度財報公布後一度大跌超過7%。造成這一反常現象的主要原因是2026年的悲觀預期。
雖然荷蘭官方多次表示半導體出口管制政策不針對任何第三方國家,但是他們卻無法否認我國確實受到了更大的影響。

現在特朗普一邊威脅要對歐盟加征30%關稅,一邊緊抓對華芯片管制不鬆手,「關稅戰、貿易戰沒有贏家」的真理正在阿斯麥身上得到體現。那麼,歐盟會不會為了救贖阿斯麥,自作主張放鬆對華出口呢?這個可能性非常低。
首先,中歐經貿談判已經接近破裂。7月8日馮德萊恩十分少見地在歐洲議會上大打「中國牌」,這位歐盟政客大談「過剩產能」「稀土危機」等涉華議題,並且她還着重討論了中俄貿易對烏克蘭危機的影響。最近一段時間裏,俄烏戰況變得越來越激烈,力挺烏克蘭的歐盟根本沒心思和我國進行經貿談判。

其次,歐美關稅談判也會影響歐盟對我國的態度。馮德萊恩已經將原本應該在7月14日生效的「210歐元對美反制清單」,推遲到8月1日執行,這正好和美國準備對歐盟加征30%關稅的時間點一致。
深陷烏克蘭危機泥潭的歐洲經濟離不開對美順差的財源,馮德萊恩為了討好特朗普一定會積極配合白宮的對華政策。
話說回來歐盟不放寬阿斯麥對華出口管制反而可以利好我國光刻機自研產業,這種「搬石砸腳」政策只會進一步加劇阿斯麥的生存危機。

三、光刻機的挑戰
來自德國夫琅和費集成系統與器件技術研究所的安德烈亞斯·埃爾德曼,長期專註高端光刻技術科研工作。按照這位德國專家的說法,光刻機之所以成為「少數高端玩家」的專利,主要是因為它需要光學、電子、數學等一系列高精尖理工科技術的協同整合。
雖然日媒預測中國遲早會成為全球第三大光刻機生產國,但是我們絕不能忽視自研道路上面臨的挑戰。

第一,人才短缺。如果把芯片「卡脖子」的難題看成「21世紀兩彈一星」,那麼我們現在最需要的就是一批像錢學森、鄧稼先這樣的「功勛」級人才。
7月8日美國參議院命令7所高校全面嚴查中國公派留學生資料,那些研究「敏感專業」或者畢業後進入「敏感單位」的公派留學生,很難獲得相關院校提供的入學手續。

就像當年美國憑藉「曼哈頓工程」掌握全球核技術領先優勢一樣,如今以硅谷為核心的全球半導體產業人才幾乎全部集中在美國。相比用「稀土換H20」這種解一時之急的政策,我們更應該用寶貴的關鍵礦產換出國留學的機會。
第二,政策限制。最近很多網友發現年初非常優秀的DeepSeek,突然變得「大智若愚」了起來,很多時政方面的問題它都回答不了。人工智能大模型是芯片產業最重要的下游需求,只有最大程度解除行業發展限制,才能讓我們的國產芯片真正成為生產力工具。

如果監管部門總是像一位不肯撒手的「老母親」,對新興行業採取極其嚴格的限制措施,本該蓬勃發展的科技產業就會變得老氣橫秋。
結語
「光刻機終將突破」的預言已經說了好多年,想讓它成為現實還需要我們作出更多努力。

幸好現在國內、國外的利好因素都比較多,我們的自研企業還有很多可以試錯的機會。
那麼,你覺得國產光刻機什麼時候才能達到阿斯麥的水平呢?歡迎在評論區留言討論,喜歡我們的文章,麻煩大家點個關注哦!
參考資料:
1.《日媒:中國正努力開發自有光刻技術,囤積阿斯麥設備庫存為取得突破贏得了時間》
2.《阿斯麥Q2財報炸裂,股價卻暴跌7.41%?2026年增長踩了「急剎車」!》