1.8nm!清華大學立功,國產EUV光刻機完成最後一塊拼圖

2021年09月08日22:26:05 科技 1325


1.8nm!清華大學立功,國產EUV光刻機完成最後一塊拼圖 - 天天要聞

近年來,在中國科技不斷取得突破的同時,以美國為首的西方國家開始坐立不安,開始不斷打壓我國科技企業,企圖限制我國科技崛起的速度。在老美的這些打壓手段中,芯片的封鎖嚴重製約了我國科技企業的發展。

華為海思等國內芯片設計企業擁有世界頂尖的芯片設計能力,中芯國際等也掌握着較為成熟、先進的芯片製程工藝,且國內企業發展所需的芯片,尤其是高端芯片,嚴重依賴進口。

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據有關部門公布的信息顯示,我國芯片的自給率不足30%,每年進口的芯片規模高達3500億美元,成為第一大進口商品。在我國科技還未能威脅到美企行業話語權之前,我們可以隨意的進口芯片,但只要我們出現崛起的跡象,老美就會切斷國內企業的“命根子”,限制我們企業的發展。

國內企業要想實現發展獨立,擺脫被人魚肉的命運,就必須加大科研投入,實現技術獨立,尤其是芯片獨立,而要想實現這一點,就必須擁有EUV光刻機。

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為了限制我國科技的發展,早在幾十年前,以老美為首的西方國家就簽訂了一個名為《瓦森納協定》的條約,禁止向我國出口一切高端技術和設備,這也直接導致了國內半導體製造企業無法採購ASML公司製造的EUV光刻機,讓我們暫時不具備製造高端芯片的能力。

所以,我們要想獨自製造高端芯片,就必須研製出國產EUV光刻機。所幸的是,在中國科學家的努力下,終於完成國產EUV光刻機的技術拼圖!

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對光刻機有一定了解的朋友都知道,EUV光刻機是由EUV光源、光學鏡頭和雙工件台三大核心組成,這些技術曾被美、日和歐洲國家壟斷,現如今,我們也擁有了。

6月底,中科院高能所承建的國內首台高能同步輻射光源設備安裝完成70%,清華大學研發的EUV光源技術轉為商用打下堅實的基礎。

與此同時,中科科美研製的精度高達0.1nm的鍍膜裝置正式投入使用,解決了物鏡生產的難題。

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然而,讓西方科技界沒想到的是,中國科學家在短時間內再次突破雙工件台,打破尼康株式會社的社長“中國科學家無法拿下工件台”的詛咒!

據媒體報道,華卓精科與清華團隊在去年就研製出了雙件工作台,經過近一年的技術改進,雙工件台的精度達到了1.8nm,無論是技術,還是精度,都與ASML公司不相上下。

據知情人士透露,上海微電子研製的28nm光刻機採用的就是華卓精科的雙工件台。

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華卓精科研製出高精度雙工件台的消息一經傳出,瞬間驚動全球,紛紛表示:中國獨自研製的EUV光刻機不久之後就能面世,到時候,老美將會為封鎖中國企業芯片付出慘重的代價。

中國科學家是世界上最聰明的一群人,美半導體行業60%以上的技術大拿都來自清華、北大等中國高校,只要這些人能夠回國,美芯將倒退三十年,而“中國芯”的發展將會步入快速發展期!對此,你有什麼看法呢?

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