超過30年的獨創性和毅力
20 世紀 80 年代
當他們搬進埃因霍溫Strijp T飛利浦大樓附近的棚子里時，創始人從未想過，在短短三十年內，ASML將成為全球創新領導者。
20世紀80年代：卑微的開端
1984年，電子巨頭飛利浦和芯片機製造商先進半導體材料國際（ASMI）成立了一家新公司，為不斷增長的半導體市場開發光刻系統。
我們被稱為ASM平版印刷，以不吉利的方式開始了我們的一天，位於荷蘭埃因霍溫飛利浦辦公室旁邊的一個漏水的棚子里。
在自 20 世紀 70 年代初以來一直在研發的基礎上，同年我們推出了第一個系統 PAS 2000 步進器。
我們發展迅速，飛利浦和ASMI擴大了他們的投資規模，以幫助ASML取得成功。
1985 年，在 100 名員工的加入下，我們搬進了位於 Veldhoven 新建的辦公室和工廠，距離飛利浦研究實驗室僅幾公里。
1986 年，我們將 PAS 2500 步進機推向市場，採用新的對準技術，這將成為我們機器未來許多創新的基礎。
同年，我們與鏡片製造商卡爾蔡司建立了現有的合作夥伴關係。
到1988年，飛利浦在台灣成立了一家合資鑄造廠後，我們開始在亞洲市場生產道路。
在美國，我們從幾名員工發展到84人，分布在五個辦公地點。
但在競爭激烈、供應商眾多的市場中，這家來自荷蘭的不知名小公司卻無法乖乖乖。
ASML的客戶很少，無法自立。
更糟糕的是，股東ASMI無法在回報很少的情況下維持高水平的投資，並決定退出，而全球電子行業則出現了轉機，飛利浦宣布了一項大規模的成本削減計劃。
我們年輕的吸食現金的光刻公司的生活懸而未決。
在對正在進行的研發的強烈信念和迫切需要資金的指導下，ASML高管聯繫了飛利浦董事會成員Henk Bodt，後者說服他的同事伸出最後的援助之手。
1990 世紀 年代
在這十年中，我們推出了我們的突破性平台PAS 5500。
如今，這些經典的光刻系統仍在客戶晶圓廠使用。
20世紀90年代：從援助之手到IPO
這項投資得到了很好的利用。
在這一年中，我們推出了一個突破性的平台PAS 5500。
憑藉其行業領先的生產力和分辨率，PAS 5500 為 ASML 帶來了盈利所需的關鍵客戶。
這是邁向成熟的第一步。
1995年，ASML成為一家完全獨立的上市公司，在阿姆斯特丹和紐約證券交易所上市。
飛利浦在IPO時出售了一半的股份，並在隨後的幾年中出售了其餘股份。
IPO帶來了資本，以進一步推動我們的增長，我們擴大了位於Veldhoven的De Run的研發和生產設施，後來成為我們的新總部。
2000 世紀 年代
在 2000 年代，我們通過沉浸式技術大幅提高了系統的分辨率，並利用我們革命性的雙級 TWINSCAN 技術提高了生產率。
2000年代：TWINSCAN和沉浸式技術鋪平了道路
2001年，我們推出了TWINSCAN系統及其革命性的雙級技術。
這些系統暴露出一個晶圓，同時測量和對齊下一個晶圓，從而最大限度地提高系統的生產率和準確性，從而提高客戶的所有權價值。
TWINSCAN AT：1150i於2003年作為第一台浸入式機器首次亮相，隨後是TWINSCAN XT：1250i
XT：1400i
並於2006年成為第一台用於浸入式批量生產的機器XT：1700i。
2007 年，我們推出了 TWINSCAN XT：1900i 浸入式系統，數值孔徑為 1.35，是業內最高的。
憑藉這項新技術，我們使客戶能夠通過透鏡和晶圓之間的一層水投射光線來生產更小的芯片特徵。
2007 年晚些時候，我們收購了領先的半導體設計和製造優化解決方案提供商 BRION。
這是我們"整體平版印刷"戰略的開始。
我們將光刻系統的知識與優化光刻之前、期間和之後的芯片製造工藝的技能相結合。
我們整體光刻戰略早期階段的另一個關鍵產品是YieldStar，這是我們的計量系統，可在芯片製造過程中提供實時測量和校正。
第一台YieldStar（250D）於2008年交付給客戶。
2010 世紀 年代
從2010年代開始，我們通過引入EUV光刻技術再次改變了半導體行業的面貌。
2010年代：整體時代
2010年，我們向一家亞洲芯片製造商的研究機構運送了第一台原型極紫外（EUV）光刻工具（NXE：3100），標誌着光刻新時代的開始。
EUV光刻使用較短波長的光來製造更小的芯片特徵，從而產生更快，更強大的芯片。
2013年，我們收購了總部位於聖地亞哥的光刻光源製造商Cymer，以加速EUV的發展。
同年，我們出貨了第二代EUV系統（NXE：3300），隨後在2015年推出了第三代EUV系統（NXE：3350）。
EUV光刻技術在2016年迎來了轉機，當時客戶開始批量訂購我們的第一個生產就緒系統NXE：3400。
在此期間，我們不斷改進浸入式光刻系統的性能，芯片行業的主力馬NXT1970Ci和NXT1980Di被安裝在世界各地的客戶工廠中。
2016年，我們通過收購電子束測量工具的領先供應商Hermes Microvision（HMI）擴展了我們的整體光刻產品組合。
我們的共同努力促成了2017年首次出貨電子束圖案保真度測量系統（ePfm5）。
在2018年清算位於荷蘭代爾夫特的高科技公司Mapper之後，ASML同意收購該公司的知識產權資產。
我們還為Mapper在研發和產品組裝領域工作的高技能員工提供了合適的職位。
2020年代：前所未有的挑戰，令人印象深刻的創新
2020年初，EUV進入大批量生產，我們慶祝了第100次EUV系統出貨。
但2020年也很重要，原因還有另一個：COVID-19大流行。
我們遍布全球的團隊通過創新新的方式從遠處支持客戶，將他們的專業知識用於大流行應對和支持我們的當地社區，證明了他們的適應和即興創作能力。
我們的下一代EUV平台的開發具有0.55（"高NA"）的更高數值孔徑也有所增加。
這個名為EXE的平台具有新穎的光學設計和顯着更快的載物台。
我們將在 2023 年向客戶交付首批 EXE 系統。
2020年11月，完成了對Berliner Glas集團的收購，我們正式歡迎Berliner Glas團隊加入ASML大家庭。
該集團的技術玻璃部門於2021年4月剝離給格拉斯特洛施集團。
