作者：黄莺
光刻胶，是集成电路半导体制造的核心材料，全球90%的光刻胶几乎都由日本企业生产，与光刻机一样，是一个妥妥的卡脖子领域。
不过目前光刻材料的国产化速度已经加快。在这一过程中，国产化替代势必会引发日本光刻胶企业的回应。
2024年12月23日，国家知识产权局公告显示，日本富士胶片株式会社（简称“富士胶片”）的一件名为“图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物以及抗蚀剂膜”的专利zl201180025664.8，经合议组审理后，认为该专利权利要求1不具备创造性而无效，权利要求2-17继续维持有效，因此宣告该专利权部分无效。无效请求人是一个自然人“陈荣玉”，很显然，这是使用了“稻草人”策略隐藏了与富士胶片可能发生纠纷的实体名称。
根据说明书记载，该发明涉及一种形成负型图案的方法，其适于使用采用波长为300纳米以下的远紫外光作为光源的arf曝光装置、arf液体浸渍投影曝光装置或euv曝光装置来曝光，且涉及一种适用于所述方法的组合物。
也就是说该专利主要涉及富士胶片与euv光刻胶有关的技术。
那么，到底是中国哪家从事光刻胶研发或生产的实体可能与富士胶片发生了专利纠纷？
就在国家知识产权局做出这份无效决定的三天后，2024年12月26日，来自中国厦门的一家光刻胶企业——厦门恒坤新材料科技股份有限公司（简称“恒坤新材”）的科创板ipo被正式受理。从披露的招股书中，可以更详细地看到中国光刻胶产业的发展现状。
恒坤新材的招股书显示，中国境内光刻材料早期发展较为缓慢，致使光刻材料原材料的开发缺乏动力和目标，间接导致现阶段中国境内光刻材料原材料仍然大部分依赖进口。
虽然近年来随着中国自主的集成电路产业的快速发展，部分关键材料已逐步实现国产化应用，但目前行业国产化率仍然处于较低水平。
尤其是在中高端领域，根据弗若斯特沙利文市场研究，在12英寸集成电路领域，i-line光刻胶、soc国产化率10%左右，barc、krf光刻胶国产化率1-2%左右，arf光刻胶国产化率不足1%，euv 光刻胶完全由国外厂商垄断。
目前，在12英寸集成电路晶圆制造领域，全球范围内生产半导体光刻胶的企业主要有日本合成橡胶、信越化学、东京应化、富士胶片、美国杜邦等。
境内企业除恒坤新材已实现i-line光刻胶与krf光刻胶量产供货外，包括南大光电、北京科华、上海新阳、瑞红苏州等也有半导体光刻胶产品在验证或量产供货过程中。
因此，很有可能此次与富士胶片陷入专利纠纷的中国实体就来自以上从事光刻胶研发和生产的实体。当然，已经实现量产的实体可能性会更大一些。
如果进一步结合国家知识产权局公开的涉案专利的双方无效代理机构来看，代表专利权人富士胶片的代理机构是北京同立钧成知识产权代理有限公司，代表无效请求人（自然人）的代理机构是厦门市精诚新创知识产权代理有限公司。
从这个代理机构的信息入手，再去检索该代理机构代理专利申请的客户信息，就会发现恒坤新材的一些专利申请案件就是由这家代理公司所代理。
然而目前尚无公开信息表明恒坤新材与富士胶片之间有专利纠纷，且恒坤新材在招股书中也没有披露有涉及专利纠纷的信息，因此还无法直接确定与富士胶片发生纠纷的就是恒坤新材。
不过，在恒坤新材招股书中，披露了两处与专利有关的财务信息。
一是在应付账款中，有应付专利技术款，2021-2022年每年大约600余万。
二是在其他非流动资产部分，专利转让款均为光刻材料树脂配方及生产技术预付款。
恒坤新材的招股书披露，截至报告期末，拥有专利80项，其中发明专利30项。在公司的组织架构中，都配备有专门的知识产权管理部。
