超过30年的独创性和毅力
20 世纪 80 年代
当他们搬进埃因霍温Strijp T飞利浦大楼附近的棚子里时，创始人从未想过，在短短三十年内，ASML将成为全球创新领导者。
20世纪80年代：卑微的开端
1984年，电子巨头飞利浦和芯片机制造商先进半导体材料国际（ASMI）成立了一家新公司，为不断增长的半导体市场开发光刻系统。
我们被称为ASM平版印刷，以不吉利的方式开始了我们的一天，位于荷兰埃因霍温飞利浦办公室旁边的一个漏水的棚子里。
在自 20 世纪 70 年代初以来一直在研发的基础上，同年我们推出了第一个系统 PAS 2000 步进器。
我们发展迅速，飞利浦和ASMI扩大了他们的投资规模，以帮助ASML取得成功。
1985 年，在 100 名员工的加入下，我们搬进了位于 Veldhoven 新建的办公室和工厂，距离飞利浦研究实验室仅几公里。
1986 年，我们将 PAS 2500 步进机推向市场，采用新的对准技术，这将成为我们机器未来许多创新的基础。
同年，我们与镜片制造商卡尔蔡司建立了现有的合作伙伴关系。
到1988年，飞利浦在台湾成立了一家合资铸造厂后，我们开始在亚洲市场生产道路。
在美国，我们从几名员工发展到84人，分布在五个办公地点。
但在竞争激烈、供应商众多的市场中，这家来自荷兰的不知名小公司却无法乖乖乖。
ASML的客户很少，无法自立。
更糟糕的是，股东ASMI无法在回报很少的情况下维持高水平的投资，并决定退出，而全球电子行业则出现了转机，飞利浦宣布了一项大规模的成本削减计划。
我们年轻的吸食现金的光刻公司的生活悬而未决。
在对正在进行的研发的强烈信念和迫切需要资金的指导下，ASML高管联系了飞利浦董事会成员Henk Bodt，后者说服他的同事伸出最后的援助之手。
1990 世纪 年代
在这十年中，我们推出了我们的突破性平台PAS 5500。
如今，这些经典的光刻系统仍在客户晶圆厂使用。
20世纪90年代：从援助之手到IPO
这项投资得到了很好的利用。
在这一年中，我们推出了一个突破性的平台PAS 5500。
凭借其行业领先的生产力和分辨率，PAS 5500 为 ASML 带来了盈利所需的关键客户。
这是迈向成熟的第一步。
1995年，ASML成为一家完全独立的上市公司，在阿姆斯特丹和纽约证券交易所上市。
飞利浦在IPO时出售了一半的股份，并在随后的几年中出售了其余股份。
IPO带来了资本，以进一步推动我们的增长，我们扩大了位于Veldhoven的De Run的研发和生产设施，后来成为我们的新总部。
2000 世纪 年代
在 2000 年代，我们通过沉浸式技术大幅提高了系统的分辨率，并利用我们革命性的双级 TWINSCAN 技术提高了生产率。
2000年代：TWINSCAN和沉浸式技术铺平了道路
2001年，我们推出了TWINSCAN系统及其革命性的双级技术。
这些系统暴露出一个晶圆，同时测量和对齐下一个晶圆，从而最大限度地提高系统的生产率和准确性，从而提高客户的所有权价值。
TWINSCAN AT：1150i于2003年作为第一台浸入式机器首次亮相，随后是TWINSCAN XT：1250i
XT：1400i
并于2006年成为第一台用于浸入式批量生产的机器XT：1700i。
2007 年，我们推出了 TWINSCAN XT：1900i 浸入式系统，数值孔径为 1.35，是业内最高的。
凭借这项新技术，我们使客户能够通过透镜和晶圆之间的一层水投射光线来生产更小的芯片特征。
2007 年晚些时候，我们收购了领先的半导体设计和制造优化解决方案提供商 BRION。
这是我们"整体平版印刷"战略的开始。
我们将光刻系统的知识与优化光刻之前、期间和之后的芯片制造工艺的技能相结合。
我们整体光刻战略早期阶段的另一个关键产品是YieldStar，这是我们的计量系统，可在芯片制造过程中提供实时测量和校正。
第一台YieldStar（250D）于2008年交付给客户。
2010 世纪 年代
从2010年代开始，我们通过引入EUV光刻技术再次改变了半导体行业的面貌。
2010年代：整体时代
2010年，我们向一家亚洲芯片制造商的研究机构运送了第一台原型极紫外（EUV）光刻工具（NXE：3100），标志着光刻新时代的开始。
EUV光刻使用较短波长的光来制造更小的芯片特征，从而产生更快，更强大的芯片。
2013年，我们收购了总部位于圣地亚哥的光刻光源制造商Cymer，以加速EUV的发展。
同年，我们出货了第二代EUV系统（NXE：3300），随后在2015年推出了第三代EUV系统（NXE：3350）。
EUV光刻技术在2016年迎来了转机，当时客户开始批量订购我们的第一个生产就绪系统NXE：3400。
在此期间，我们不断改进浸入式光刻系统的性能，芯片行业的主力马NXT1970Ci和NXT1980Di被安装在世界各地的客户工厂中。
2016年，我们通过收购电子束测量工具的领先供应商Hermes Microvision（HMI）扩展了我们的整体光刻产品组合。
我们的共同努力促成了2017年首次出货电子束图案保真度测量系统（ePfm5）。
在2018年清算位于荷兰代尔夫特的高科技公司Mapper之后，ASML同意收购该公司的知识产权资产。
我们还为Mapper在研发和产品组装领域工作的高技能员工提供了合适的职位。
2020年代：前所未有的挑战，令人印象深刻的创新
2020年初，EUV进入大批量生产，我们庆祝了第100次EUV系统出货。
但2020年也很重要，原因还有另一个：COVID-19大流行。
我们遍布全球的团队通过创新新的方式从远处支持客户，将他们的专业知识用于大流行应对和支持我们的当地社区，证明了他们的适应和即兴创作能力。
我们的下一代EUV平台的开发具有0.55（"高NA"）的更高数值孔径也有所增加。
这个名为EXE的平台具有新颖的光学设计和显着更快的载物台。
我们将在 2023 年向客户交付首批 EXE 系统。
2020年11月，完成了对Berliner Glas集团的收购，我们正式欢迎Berliner Glas团队加入ASML大家庭。
该集团的技术玻璃部门于2021年4月剥离给格拉斯特洛施集团。
