日本先进光刻机保有量上升，ASML 计划驻日维护团队规模扩大四倍

it之家 4 月 3 日消息，《日经亚洲》当地时间昨晚报道称，在日本半导体制造足迹不断扩张、先进光刻机保有量持续上升的趋势下，asml 计划将其驻日维护团队在未来几年扩大到当前规模的 5 倍，到 2027 年来到 100 人。

根据it之家的了解，日本境内至少有三个项目将引入 asml 提供的 euv 光刻设备，分别是 rapidus 位于北海道千岁市的 iim 晶圆厂（2nm 逻辑）、美光广岛的内存生产线（1-gamma dram）和台积电日本子公司 jasm 的二期晶圆厂（6/7nm 逻辑）。

而若考虑到 duv 机台，日本的 asml 设备持有规模将进一步提升。更大的当地支持组织能帮助 asml 在日本客户提出需求的第一时间响应处置，从而减少停机等待时间，降低客户的损失。