据台媒报道，上周五，中国台湾台中地院就联电被控协助福建晋华以窃取美商科技大厂美光（Micron）动态随机存取存储器（DRAM）生产技术案做出判决，涉案戎某、何某和王某3人分别被判以4年半~6年半不等的有期徒刑。而联电公司则被判罚新台币1亿元（合人民币2390万元）。这一案件的“导火索”是联电与福建晋华合作开发32nm DRAM技术，3名中国台湾美光高管随机转任联电引发商业间谍疑云。最终导致美光、联电与福建晋华之间在美国、中国大陆和台湾地区的司法诉讼。
对于此次判决，联电发表措辞明确声明，其技术是根据自有技术基础开展研发，可以出具完整的研发记录来证明：
本次DRAM制程技术之研发，乃台湾投审会事先核准之专案，并为联电以自有技术为出发点，由三百多位工程师组成的研发团队(其中多数为联电经验丰富的研发人员)通力合作，耗时超过二年自主开发DRAM制程，且保留相关研发纪录，期盼经此过程训练的DRAM研发人才与研发结果能根留台湾。除了工程师们的努力之外，联电多年累积的研发经验及传承，更是驱动开发的中流砥柱。
而美光方面的声明则含糊其辞，只是声称技术是美光过去四十年在台湾长期耕耘的结果：
美光于过去四十多年已投入数十亿美元持续开发业界领先的先进技术，且在中国台湾长期耕耘制程开发与技术创新，数千名中国台湾同仁于此过程中，共同参与研发公司之智慧财产。美光营业秘密在中国台湾被窃用，甚至违法输出。
其实从各自的声明我们可以看出，联电的技术细节是否窃密美光，需要详细研判才能做出裁定，毕竟美光的技术也是源自台湾，而联电的技术是否直接来自美光的技术并不能因为联电挖了三名前美光的台湾高官就做出结论。美光的真实目的是向通过专利诉讼打击台湾产业界和大陆厂商的合作，起到杀鸡儆猴的效果。
而台湾法院的判决，很可能屈服于美国压力而对台湾本土产业界施加毒手，也是被逼无奈之举。联电在声明中强调，把台湾技术的根留在台湾，希望能够对法院的判决打本土产业牌，但法院很显然并不为所动。联电声明中也表示，联电决心会继续上诉。
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