ASML与台积电同时进军1nm工艺，先进制程正被一步步突破

现在在芯片应用领域，人们已经进入7纳米时代，随着今年台积电，三星在5纳米工艺上的突破，剩下的就是3纳米、2纳米以及1纳米工艺了，这一人类半导体产业进军的阶梯，正在被人类一步步的突破。

ASML

台积电1纳米工艺已经提上日程

现在的台积电刚刚实现了对5nm工艺芯片的量产，而按照台积电的计划，近两年要实现对3纳米工艺的量产，至于2纳米，现在宣传的时间则是2024年，虽然存在一定的变数，但是却也说明台积电在先进制程工艺方面，一直在保持不断的创新。

芯片

至于后面，那就要说一下1纳米工艺了，台积电在近日的股东大会上已经宣布了公司已经在1纳米工艺方面，开展了相关研究，相信早2024年实现2纳米工艺量产之后，也会取得较大的进步。

ASML

ASML是台积电突破1纳米工艺的关键推手

台积电在先进制程工艺方面所获得的成就有目共睹，但是如果没有ASML的助推，是很难获得现如今的成就的，虽然ASML的发展也是依靠台积电的林本坚推动起来的，但是，现在的高端光刻机市场ASML是绝对的NO.1，现在台积电要想在3纳米、2纳米，甚至是1纳米上获得突破，以现在的局面来看的话，没有ASML是绝对做不到的！

台积电

所以说，台积电在朝向1纳米工艺发起冲锋，其实也是ASML在朝向1纳米领域进军。而ASML在实现第一代EUV光刻机量产之后，已经开始了在第二代产品上的研发，据悉，按照ASML的计划，第二代EUV光刻机将在2020年实现出货，相比于第一代EUV光刻机，新一代光刻机的性能提升70%。这让芯片制程工艺进入2nm，甚至是1nm都成为了可能。

ASML

台积电要想实现1纳米工艺的量产，缺少了ASML的1纳米工艺光刻机，那台积电就不可能实现。不过，以现在在全球制程工艺方面的研制进度来说，ASML离开了台积电的巨大需求，基本上也就处于“英雄无用武之地”了。所以，这两家企业的携手并进才是全球半导体产业快速发展的关键。