台积电3nm细节曝光:2.5亿晶体管/mm² 能耗性能大幅提升

2022年08月18日07:34:15 热门 1700

集微网消息(文/木棉)据外媒报道,台积电近日透露,其未来的3nm制程工艺的发展目标是在工艺封装上达到2.5亿晶体管/mm²!

台积电首席执行官确认3nm节点的开发正在按计划进行,计划于2021年进行风险生产,并于2022年下半年开始批量生产。此外,台积电决定3nm采用FinFET晶体管技术。

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资料来源: WikiChip Fuse

性能提升上,台积电5nm较7nm性能提升15%,能耗提升30%,而3nm较5nm性能提升7%,能耗提升15%。

3nm制程是半导体产业历年最大手笔投资,更是龙头争霸的关键战役。据了解,台积电3nm工艺总投资高达1.5万亿新台币,约合500亿美元,光是建厂就至少200亿美元了。

作为台积电的主要竞争对手,三星追赶台积电的企图一直没有停过,三星在14纳米制程大幅落后台积电后,随后的10nm、7nm制程更被台积电大幅领先,三星因而跳过5nm,直接决战3nm制程,计划在2030年前投资1160亿美元,希望超越台积电成为全球第一大晶圆代工厂。(校对/ Jurnan )

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