芯片供给过剩，ASML的EUV光刻机也将过剩，能救它的只有中国芯片

ASML表示仍然在不断加大EUV光刻机的产能，但是它也表示担忧未来3年EUV光刻机将出现过剩，面对可能出现过剩的前景，它仍然计划大举增加EUV光刻机的产能，目的可能是为了争取未来两三年实现自由出货，给中国大举供应EUV光刻机。

ASML给出的EUV产能规划显示今年的EUV光刻机产量将提升至55台，预计到2025年的产量将达到90台，如此大幅增产可能会导致EUV光刻机产能过剩的结果。

由于众所周知的原因，ASML当前无法给中国供应EUV光刻机，全球诸多芯片制造企业当中格芯和联电都已停止研发7nm及更先进工艺，如此需要EUV光刻机的企业就只剩下Intel、台积电和三星。

台积电和三星当前计划在下半年量产3nm工艺，它们更先进的2nm工艺则需要第二代EUV光刻机；Intel的Intel 4工厂已完成EUV光刻机等设备的安装，更先进的Intel 20等工艺也需要第二代EUV光刻机。它们接下来对EUV光刻机的需要主要用于增加产能，这意味着这三家芯片制造企业对EUV光刻机将大幅下降。

台积电从2017年开始采购光刻机，至今也不过采购了79台EUV光刻机，而它已取得全球超过五成的芯片代工市场，ASML却计划到2025年实现年产90台EUV光刻机，如此情况下仅靠台积电、三星和Intel消耗这些EUV光刻机产能已不现实，EUV光刻机很可能将出现产能过剩。

ASML在明知EUV光刻机可能产能过剩，仍然大举扩张EUV光刻机，在于它迫切希望回收研发投资，据悉它研发EUV光刻机的投入高达400多亿，至今给台积电、Intel和三星供应的EUV光刻机获利相当有限，而第二代EUV光刻机将在2024年开始投产，因此它迫切希望在这有限的3年多时间里再销售一波EUV光刻机以增加利润。

可是正如上述，Intel、台积电和三星需要EUV光刻机的先进工艺已经基本完成投资，接下来采购EUV光刻机不过是增加产能罢了，对EUV光刻机的需求将大减，可以推测ASML仍然大举扩张EUV光刻机的产能应该就是为了未来数年向中国出口。

中国对光刻机的需求几乎是喷发式的，在这三年时间，中国大举扩张芯片产能，全球的光刻机根本就无法满足中国的需求，导致中国不得不大举从日本采购二手光刻机，由此日本的二手光刻机价格暴涨两倍，但是仍然无法完全满足中国的需求，可以看出中国对光刻机的需求量多么庞大。

中国芯片制造企业已为7nm工艺技术进行数年的储备，时刻准备着推进7nm乃至更先进工艺的量产，一旦ASML获得许可给中国供应EUV光刻机，那么中国将会大规模采购，正如此前大陆采购日本二手DUV光刻机一样，而这也是ASML赚EUV光刻机最后一波利润的机会，如此也就不奇怪ASML当下大举扩张EUV光刻机产能了。

目前全球芯片市场已发生重大变化，从此前的供给不足向供给过剩转变，美国诸多芯片企业都被传出芯片库存水平超出正常水平，因此纷纷祈求中国企业采购更多芯片，某模拟芯片龙头甚至大举降价近九成求中国企业采购，可见当下芯片行业过剩的现象已趋于严重。

如今ASML大举扩张EUV光刻机，Intel、台积电和三星三大客户却已无法啃下如此大量的EUV光刻机，ASML也有可能如美国芯片那样祈求中国芯片，可谓异曲同工，想当初它们多么高傲，如今却又如此低姿态，这对比未免也剧烈了些。