台积电购买ASML的High-NA EUV光刻机，目标是在2025年量产2纳米制程工艺。英特尔同样也已下单，美国发布公告，已推出世界上最高分辨率的光刻系统，使用电子束光刻方式，可以制造出0.7纳米芯片