此前，本以为EUV光刻机设备这一方面，老美限制的只是ASML和我们国内企业的一些合作。但是到后来，外企在我们国内扩建工厂需要引进EUV光刻机的时候，也遭到了老美的阻拦。由此我们可以看到老美对于先进的制造设备这一块出货的态度是很强硬的。
随后，在美芯片法案之后老美又再次有了新的动作，那就是扩大了限制范围，对中国市场的工艺制程从10nm工艺升级到了14nm。按照老美之前的态度来说，在我们国内有所投资产能的工厂都要在这个限制范围内。不过，因为多种方面的因素，老美对这件事有所松口，直接表示韩企不在限制的范围内。
本以为老美这番承诺还是很管用的，但让我们没有想到的是，就在近日，外企正式发出了“警告”。
据有关的信息显示，三星认为在这样的限制之下，长远的局面中，三星引进一些新设备放入到中国工厂中或将受到阻拦。而这些新设备自然也包括光刻机，从某种程度上来说，三星在引进光刻机方面或将也受到阻拦。很显然，三星在“警告”自己不要对这些承诺信以为真，而是要为长远的局面去做打算。
我们可以认为，在三星的眼中，老美的话也不管用了。不过，这是一件很出乎意料的事情，毕竟三星对美市场的重视程度很高，再加上现在有了老美的承诺，三星不应该如此发声才对。但话说回来，三星会不相信也很正常。
首先，就这一个口头上的承诺并没有正式的协议发布。对于这样的事情，老美向来喜欢采取的措施就是拖字诀，拖到最后杳无音信。因为在过去有很多次这样的案例。我们也不说其他的，就光说这个芯片法案，就前前后后的拖了很长一段时间。那么可想而知，连有协议的东西都能如此拖延，就更别说口头上的承诺了。
其次，从长远的局面来说老美确实是打算进一步的削减中国在半导体上先进工艺的发展能力。从之前EUV光刻机的限制，到游说DUV光刻机的扩大禁止出货的范围。再到在芯片法案落地之后一系列的操作，如前文说到的工艺限制升级，以及确定先进工艺定义到28nm工艺制程，还有在美建立工厂的企业，想要获得补贴就在未来的十年内都不能在国内市场上有先进工艺制程的投资计划等等。
我们不难看出，三星对自身的“警告”是有一定道理。或许换句话说就算是现在这个限制暂时抛开了对韩企的限制，那么下一次呢？或者说另外的一些限制规定呢？按照老美这个态度，三星也迟早躲不过。而且，三星无论是在出货率上，还是在我们国内的产能上，都已经奠定三星无法失去中国市场的基础。在这个情况下，三星自然有所担忧。
不过看三星的态度，似乎是想找到一个双赢的办法，只是不知道三星这个算盘会不会落空。
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