众所周知，目前主流的光刻机主要有两种。
一种是EUV光刻机，也称之为极紫外线光刻机，用于7nm及以下的芯片光刻。另外一种是DUV光刻机，称之为深紫外线光刻机，主要用于10-130nm光刻机，只有ASML能生产。
DUV光刻机又有两大路线，一是ASML为代表的浸润式光刻机，以水为介质，采用193nm波长的光线，在水中折射后，变成132nm。
还有一种是干式光刻机，以空气为介质，采用157nm波长的光线，主要是日本的尼康、佳能为代表。
国内上海微电子也有DUV光刻机，采用的是浸润式，不过技术相对落后，虽然也称之为DUV，却还处于90nm的精度。
相对于EUV光刻机，DUV确实算成熟的技术了，所以一直以来，DUV光刻机是自由的，ASML也好，尼康也好、佳能也好，是无需获得美国出口许可证便可以向中国客户出货DUV光刻系统的。
所以一直以来，国内也大量采购ASML的DUV光刻机，用于芯片光刻，国产光刻机虽然也使用，但使用得比较少，理由嘛不用多说了。
但是一直以来，美国都想剥夺我们的DUV自由，在2020年、2021年，美国的一些议员，都提出了一些提案，表示美国政府需要与日本和荷兰合作，禁止DUV类设备出口到中国。
不过反对的更多，ASML、尼康、佳能们也一直不干，表示DUV这么成熟的技术，封禁也没意义，中国自己就生产出来了，何必影响他们赚钱呢？所以虽然有风声，但一直没有执行。
而昨天，又传出消息，有媒体报道称，美国正在推动荷兰政府禁止ASML向中国大陆出售一些关键技术，包括DUV光刻机。同时还表示，美国政府还计划施压给日本，欲让日本尼康、佳能等也不向中国大陆出口DUV光刻机。
有些网友一看这个就表示了震惊，称这是全面下死手了？事实上，正如我前面所言，这几年，每年都要这么折腾一回甚至几回，不过到目前为止，都没有真正实施。
一方面是DUV真的算成熟技术，就是国外不卖，国内也能够搞出来，反而让国外的厂商失去了市场。
另外一方面，目前中国已经是全球最大的半导体设备市场了，光刻机没有，那么整个生产线也建不了，其它的设备也不好卖了，那么对美国、日本这两个垄断设备、材料 、EDA的厂商而言，失去的更多。
所以理论上来讲，DUV自由是很难被剥夺的，但即使是这样，国产光刻机也必须顶上来了，不说EUV，DUV的精度得提升了，免得对方老是给你施压，然后获得自己的利益吧。
