ASML有對手了!佳能印刷光刻機迎來大客戶:美光率先支持

2024年03月05日21:25:24 科技 1082

我們之前就介紹過,除了ASML最新的High-EUV光刻機之外,日本光刻機大廠佳能發布的納米印刷光刻機也非常引人關注,因為這種光刻機在價格和晶元生產成本上,都要由於ASML的High-EUV光刻機,也可以說佳能是在高端光刻機市場上,唯一能稱得上ASML對手的廠商,而現在佳能也迎來了好消息,美光已經宣布會在內存晶元的生產上,使用佳能的納米印刷光刻機。

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儘管Intel台積電三星等晶元代工大廠,都會繼續支持ASML,但像存儲廠商,都會自己購買相應的存儲晶元生產設備。考慮到存儲廠商更注重成本,所以佳能在剛宣布納米列印光刻機的時候,就引起了很多企業的注意。現在美光計劃首先支持日本佳能的納米半導體印刷技術,希望藉此進一步降低生產DRAM內存晶元的成本。

很有意思的是,美光日前自己發布演講,專門介紹了佳能納米半導體印刷技術用於DRAM生產的細節,包括DRAM製程和沉浸式曝光解析度,由於層數不斷增加,代表必須增加更多曝光步驟,以取出密集記憶體陣列周圍虛假結構。佳能的納米印刷光刻機,似乎比傳統的設備更有利於美光在內存晶元上的製造。

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這其實意味著美光已經掌握了佳能這個光刻機生產內存晶元的技術,考慮到光學系統的特性,DRAM層的圖案很難用光學曝光來繪畫,而納米半導體列印可更精細列印圖案,且納米半導體印刷成本是沉浸式光刻機的20%,所以是很好的解決方案。但另一方面,納米印刷光刻機並不能在記憶體生產所有階段取代傳統光刻機,所以兩者並非純粹競爭關係,但對廠商來說至少降低單技術操作的成本。

佳能公司在2023年10月公布了型號為FPA-1200NZ2C的納米半導體印刷設備,佳能社長表示,納米半導體印刷問世,為小型半導體製造商生產先進晶元開闢了新的途徑。納米半導體印刷是指將有半導體電路圖的光罩壓印至晶圓,只需一個印記就可在適當位置形成複雜2D 或3D電路圖,而且未來只需改進光罩就能生產2nm的晶元。當然我們不能說這個技術就比ASML更先進,但至少讓廠商有了更多的選擇。

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對於ASML來說,佳能已經是一個肉眼可見的競爭對手了,而且佳能最大的優勢就是成本,原本佳能說納米光科技只需要傳統EUV光刻機十分之一的價格就能搞定,但現在看來價格降不到這麼低,不過依然比ASML有不小的優勢,另外生產成本更低,也會促使一些廠商會考慮採用佳能的方案。當然最後的問題還是,這種光刻設備能引入中國么?

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