國內高純工藝龍頭至純科技，清洗設備邁入新的發展階段

2022年09月14日21:23:12 熱門 1333

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《高純工藝龍頭至純科技》

今天我們一起梳理一下至純科技，公司的主營業務主要包括高純工藝系統的研發、生產和銷售；半導體濕法清洗設備研發、生產和銷售; 光感測應用及相關光學元器件的研發、生產和銷售。

泛半導體工藝伴隨許多種特殊製程，會使用到大量超高純（ppt級別）的乾濕化學品，這是完成工藝成果的重要介質，其特點是昂貴並伴隨排放。在集成電路領域，高純工藝系統主要包括高純特氣系統、大宗氣體系統、高純化學品系統、研磨液供應及回收系統、前驅體工藝介質系統等。其中，各類高純氣體系統主要服務於幾大幹法工藝設備，各類高純化學品主要服務於濕法工藝設備。公司在用戶價值上聚焦六個詞：「高純、工藝、節能、環保、自動化、智能化」。公司在濕法工藝往深度走的同時，在減排和工藝數字化領域也投入研發，有具體的產品和服務的部署，該領域的投入兼具經濟效益和社會效益。

在應用領域上，高純工藝系統的使用範圍越來越廣。不純物控制技術最初應用在半導體行業。隨著半導體製程工藝的廣泛應用，現代製造業形成了一個泛半導體產業，即皆以半導體製程為產品的製造流程，其中的製程包括如摻雜、光刻、刻蝕、CVD成膜等均需使用相當多的高純度氣體和高純度化學品，從而產生對高純工藝系統的大量需求。

目前少數本土供應商的產品和服務已經順利進入全球一線客戶，競爭地位不斷增強，正逐步實現進口替代，包括系統的替代、設備的替代、乃至元器件層的替代。行業內技術領先且具有承接大項目實力與經驗的本土企業較少，行業內呈現出高等級高純工藝市場集中度較高、低等級市場較為分散的競爭格局，本土主流供應商的競爭地位將不斷增強。

國內與至純科技經營模式完全相同或基本覆蓋本公司業務範圍的公司較少。目前能獲得公開財務數據的國內公司中，只有朗脈股份（已被常鋁股份合併）、正帆科技與公司的業務最為相近，而朗脈股份的潔凈系統業務僅針對醫藥行業。國際供應商包括台灣上市公司帆宣科技、漢唐集成。

公司通過多年的經驗積累和技術開發，產品和服務不斷完善，在行業中形成了良好的口碑和信譽，積累了一批高端客戶和合作夥伴，且基本為各自行業的領軍企業或主要企業。半導體領域客戶有上海華力、中芯國際、長江存儲、合肥長鑫、士蘭微、西安三星、無錫海力士等眾多行業一線客戶；光伏行業客戶有英利、協鑫集成、通威股份等；在醫藥領域領域獲得了百特、君實生物、邁瑞、寶潔、康弘、金霸王等國際和國內頭部製藥及個人護理領域用戶的訂單。

高純工藝系統具有客戶粘度較高的特點，2020年公司所有核心客戶均給予了重複訂單，包括中芯，華力，海力士，長鑫，士蘭微，惠科等，整體訂單數量創歷史新高，逐步鞏固龍頭地位。

公司 2015 年開始啟動半導體濕法工藝設備研發，2016 年起業務重心逐漸偏向半導體行業。

清洗為半導體製程重要環節，是影響器件成品率及可靠性最重要的因素之一。為減少雜質對晶元良率的影響，實際生產中不僅需要提高單次清洗效率，還需要在幾乎所有製程前後都進行頻繁的清洗，清洗步驟約佔整體步驟的 1/3。例如，在單晶矽片製造階段，需要清洗拋光後的矽片，保證其表明平整度和性能；在過程工藝階段，需要在刻蝕、化學沉積、去膠等關鍵工藝前後進行清洗，去除工藝過程中矽片沾染的化學雜質，減小缺陷率；在封裝階段，需根據封裝工藝進行 TSV 清洗、UBM/RDL 清洗等。

按照清洗原理來分，清洗設備可分為干法清洗設備和濕法清洗設備。濕法工藝是指使用腐蝕性或氧化性較強的溶劑進行噴霧或擦洗，使硅表明的雜質與溶劑發生化學反應，生成可溶性物質或氣體，從而將晶圓表明的顆粒或其他金屬離子清洗掉。干法工藝指不使用化學試劑的清洗技術，包含等離子清洗、氣相清洗等。在實際生產過程中一般將兩種方法結合使用，目前 90%以上的清洗步驟以濕法設備為主，少部分特定站點使用干法清洗來提高清洗效率。至純科技主要生產濕法清洗設備。

按照同時清洗晶圓的數量來分，清洗設備可分為槽式清洗和單片式清洗。槽式清洗是將多片晶圓（一般為 100-200 片）放入清洗槽中，集中清洗，此類清洗機效率高，成本低缺點是濃度較難控制，可能產生交叉污染等。單片式清洗是將每一片晶圓送至各個腔體進行單獨噴淋式清洗，這樣容易控制清洗質量，也可提高單片晶圓不同位置的清洗均勻度，但清洗效率較低。

清洗設備在半導體設備市場中價值量佔比約 5-6%，相較光刻、刻蝕等核心設備價值量較低，同時技術門檻較低，比較容易首先實現全面國產化。

根據 SEMI 數據，2015年全球半導體清洗設備市場規模為 26 億美元，預計 2020 年將達 37 億美元，複合增長率為 7%。預計中國大陸地區每年的濕法清洗設備的空間在 15-20 億美元，到 2023年清洗機的國產化率可達 40%-50%，即國產設備的市場空間在 40-70 億元；且預計未來12 寸晶圓的槽式和單片式清洗設備將是市場的主要增量。其中單片式清洗機領域公司有望成為少數幾家具備核心技術的國產設備商。

全球半導體清洗設備行業國外廠商壟斷。目前全球半導體清洗設備龍頭主要為DNS(日本迪恩士)、TEL(日本東京電子)、Lam Research(美國拉姆研究)和SEMES(韓國)等日美韓企業，根據Gartner數據顯示，2019年全球清洗設備CR4約為98%，市場高度集中，其中迪恩士以市佔率45.1%處於領先地位。清洗設備主要國產供應商有：盛美股份、北方華創、芯源微、至純科技等。

2020年公司單片濕法設備和槽式濕法設備全年出機超過了30台。同時單片式濕法設備新增訂單金額超過3.6億元，增長顯著。目前，半導體清洗機的國產化率不到10%，伴隨著國產化率的提升，以及啟東項目逐步釋放產能，公司半導體業務有望進一步成長。

2019年公司完成收購波匯科技，進軍光感測器市場。

波匯科技主要業務為光感測應用及相關光學元器件的研發、生產和銷售。公司作為行業內少數具有垂直集成製造能力的廠商之一，擁有從基礎光學元器件（光學濾光片、激光管帽等）、感測設備和系統到數據分析和應用集成軟體平台的研發和規模化生產能力。公司光感測領域客戶有國家電網、南方電網、中國石油、華為、霍尼韋爾等；光通信領域，公司與石家莊麥特達電子科技有限公司、瑞谷光網、儲翰科技等知名企業建立了良好的合作關係。

收購波匯科技，有利於發揮業務協同效應，同時不會與目前收入利潤的主要來源集成電路和分立器件領域的客戶競爭，有利於公司進一步提高持續盈利能力，有效提升上市公司的產品競爭力和市場空間。

一、國內高純工藝龍頭，清洗設備邁入新的發展階段

至純科技成立於2000年；2000-2005年公司業務以工程分包為主；2005-2008年確立以高純工藝系統整體解決方案供應商為主營業；2008-2012年公司業務以光伏產業發展為驅動，躋身業內最優秀的供應商之列；2012-2015 年公司業務穩定：以醫療產業發展為驅動力；2016-2017年公司發展驅動力以半導體為主；2017年公司上市並進軍半導體裝備行業；2018年公司的清洗設備通過客戶質量認證，並批量出貨；2019年收購波匯科技進軍光電子領域。

二、業務分析

2015-2020年，營業收入由2.08億元增長至13.97億元，複合增長率46.36%，20年同比增長41.63%，2021Q1實現營收同比增長104.13%至2.31億元；歸母凈利潤由0.18億元增長至2.61億元，複合增長率70.72%，20年同比增長136.36%，2021Q1實現歸母凈利潤0.75億元；扣非歸母凈利潤由0.16億元增長至1.11億元，複合增長率47.31%，20年同比增長22.20%，2021Q1實現扣非歸母凈利潤0.03億元；經營活動現金流分別為0.02億元、-0.18億元、-0.68億元、-0.53億元、-1.11億元、-2.81億元，2021Q1實現經營活動現金流-0.74億元。

分產品來看，2020年高純工藝系統集成實現營收同比增長35.53%至8.63億元，佔比61.85%，毛利率增加5.32pp至31.76%；半導體設備實現營收同比增長166.77%至2.18億元，佔比15.61%，毛利率減少2.23pp至29.85%；光感測器及光器件實現營收同比增長18.95%至3.15億元，佔比22.55%，毛利率增加1.74pp至55.33%。

2020年公司前五大客戶實現營收3.61億元，佔比25.85%。

三、核心指標

2017-2020年，毛利率由39.73%下降至18年低點28.19%，隨後逐年提高至36.79%；期間費用率由23.66%下降至18年低點13.47%，隨後逐年上漲至19.21%，其中銷售費用率由4.04%下降至17年低點2.00%，隨後逐年上漲至3.90%，管理費用率由15.14%下降至18年低點7.58%，隨後逐年上漲至9.85%，財務費用率16年下降至低點1.62%，而後上漲至5.46%；利潤率16年提高至17.21%，隨後逐年下降至18年低點4.67%，而後逐年提高至18.66%，加權ROE16年提高至16.76%，隨後逐年下降至18年低點7.71%，而後逐年提高至16.03%。