此前，本以為EUV光刻機設備這一方面，老美限制的只是ASML和我們國內企業的一些合作。但是到後來，外企在我們國內擴建工廠需要引進EUV光刻機的時候，也遭到了老美的阻攔。由此我們可以看到老美對於先進的製造設備這一塊出貨的態度是很強硬的。
隨後，在美晶元法案之後老美又再次有了新的動作，那就是擴大了限制範圍，對中國市場的工藝製程從10nm工藝升級到了14nm。按照老美之前的態度來說，在我們國內有所投資產能的工廠都要在這個限制範圍內。不過，因為多種方面的因素，老美對這件事有所鬆口，直接表示韓企不在限制的範圍內。
本以為老美這番承諾還是很管用的，但讓我們沒有想到的是，就在近日，外企正式發出了「警告」。
據有關的信息顯示，三星認為在這樣的限制之下，長遠的局面中，三星引進一些新設備放入到中國工廠中或將受到阻攔。而這些新設備自然也包括光刻機，從某種程度上來說，三星在引進光刻機方面或將也受到阻攔。很顯然，三星在「警告」自己不要對這些承諾信以為真，而是要為長遠的局面去做打算。
我們可以認為，在三星的眼中，老美的話也不管用了。不過，這是一件很出乎意料的事情，畢竟三星對美市場的重視程度很高，再加上現在有了老美的承諾，三星不應該如此發聲才對。但話說回來，三星會不相信也很正常。
首先，就這一個口頭上的承諾並沒有正式的協議發布。對於這樣的事情，老美向來喜歡採取的措施就是拖字訣，拖到最後杳無音信。因為在過去有很多次這樣的案例。我們也不說其他的，就光說這個晶元法案，就前前後後的拖了很長一段時間。那麼可想而知，連有協議的東西都能如此拖延，就更別說口頭上的承諾了。
其次，從長遠的局面來說老美確實是打算進一步的削減中國在半導體上先進工藝的發展能力。從之前EUV光刻機的限制，到遊說DUV光刻機的擴大禁止出貨的範圍。再到在晶元法案落地之後一系列的操作，如前文說到的工藝限制升級，以及確定先進工藝定義到28nm工藝製程，還有在美建立工廠的企業，想要獲得補貼就在未來的十年內都不能在國內市場上有先進工藝製程的投資計劃等等。
我們不難看出，三星對自身的「警告」是有一定道理。或許換句話說就算是現在這個限制暫時拋開了對韓企的限制，那麼下一次呢？或者說另外的一些限制規定呢？按照老美這個態度，三星也遲早躲不過。而且，三星無論是在出貨率上，還是在我們國內的產能上，都已經奠定三星無法失去中國市場的基礎。在這個情況下，三星自然有所擔憂。
不過看三星的態度，似乎是想找到一個雙贏的辦法，只是不知道三星這個算盤會不會落空。
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