但如今國際市場上不斷傳來新消息，皆是對ASML不利的，在老美的不斷壓迫之下，這「壟斷」的日子也不再好過了，「好日子」也漸行漸遠了，這究竟發生了什麼呢？ASML又該如何應對呢？
ASML遭遇的困境
根據最新的消息，台積電方面已經宣稱，在年底將會關停部分EUV光刻機設備，而目的就是為了節省開支，據悉一台EUV光刻機全負荷運行，一天就要用掉3萬度的電，年消耗量超過1000萬度。
而這「省成本」的背後，卻是反映出了目前晶元產業的困境，先進工藝絕大部分被用於智能手機等等設備上，根據統計2022年第一季度全球僅出貨了3.112億台手機，同比下滑超過了11%，第二季度繼續下滑到了2.92億台。
目前台積電有著80台EUV光刻機，而三星有著50台左右，超過90%以上的產能都在這兩家企業手上，隨著數碼產品的出貨量降低，先進晶元的需求自然也隨之減少，高通、聯發科等等廠商都在縮減訂單。
台積電已經宣布關停部分EUV設備，說明能夠給到三星的產能也將減少，這說明現有的EUV光刻機產能需求已經過剩了，需求量在降低，影響最大的自然就是靠賣設備為生的ASML了。
要知道前幾個月，EUV的產能還是供不應求的，為了獲取更多的產能，三星的負責人還親赴荷蘭的ASML總部，要求及時交付更多的EUV光刻機，但如今這樣的轉變著實讓人意外。
本身受到當前形勢的影響，在氖氣被斷供之後，ASML的實際產能已經受到了影響，無法按時交付客戶訂單，也讓其錯過了最佳的機會，面對如今市場環境的突然變化，EUV光刻機很有可能被迫庫存。
而倪光南院士很早之前就呼籲：「要把重心放在成熟工藝上！」中芯在照做之後可謂風生水起，然而台積電卻反其道而行，過度執著於先進工藝，如今的處境可以說越來越難了，院士的話已經應驗了。
ASML該如何應對
在晶元法案還沒發布之前，老美就曾找到ASML，要求其將對於晶元的限制範圍，有原本的EUV範疇調整為DUV範疇，深知中國市場重要性的ASML，當面拒絕了這樣的無理要求。
但也因此惹怒了老美，在全新晶元法案落地之後，就有一條專門針對ASML的限制，那就是先進工藝範疇被調整為了28nm以下，隨後其負責人也正式宣布，針對中國市場的晶元設備限制，將由原本的10nm提升至14nm，很顯然目的就是為了阻止DUV光刻機的進口。
受到先進工藝需求量的減少，EUV光刻機的銷量肯定受影響，如果就連DUV光刻機也無法出口，那麼ASML的實際經營肯定會遇到困境，畢竟中國已經成為了全球第三大光刻設備市場。
而這一次ASML負責人態度這麼決絕，也足以看出問題的嚴重性了，此前全球缺芯缺的也是成熟工藝，而先進工藝晶元一直都是有庫存的，而成熟工藝的市場需求佔到了90%以上，所以這也是國內院士呼籲成熟工藝國產化的原因。
除了面對產能縮小的事實之外，ASML也不斷面臨著外部的壓力，在中科院的領銜下，國產光刻機距離量產僅有一步之遙，而日企佳能、尼康也恢復了光刻機的研發，也宣告著ASML的光刻機並非不可替代。
而相比於研發光刻機，目前各個國家更想擺脫「光刻機依賴」，已經在新材料以及新工藝上下足了功夫，美日研發的NIL工藝，已經被證實不使用EUV光刻機的情況下，可以實現5納米以下工藝，同樣華為、台積電研發的堆疊工藝，都在影響著光刻機的地位。
除此之外光電子晶元、碳基晶元等等技術，都已經取得了重大的突破，一旦技術成功實現了商用，就意味著已經能夠擺脫光刻機實現晶元製造了，所以才會說ASML的「好日子」已經漸行漸遠了，對此你們是怎麼看的呢？
