ASML成功秘诀：美国EUV LLC联盟扶植ASML，力压尼康

【ASML成功秘诀：美国EUV LLC联盟扶植ASML，力压尼康！】

ASML的成功离不开两件事情：

第一件：当193纳米光源突破后，再次向157纳米光源攻关技术时，遇到了技术瓶颈。当时台积电的林本坚工程师提出了基于“水能使光的波长缩短”原理，不用传统的干式光刻机，而是用沉浸式光刻。也就是用193纳米的光源，经过水介质后，经过折射改变波长，可得到157纳米的波长。

在其它光刻机企业都排斥这个方案时，ASML接受了。2004年，ASML制造出了第一台浸润式光刻机样机，力压尼康。

第二件：ASML加入“光刻机联盟”。在同时期，为了突破光刻技术。美国能源部牵头和英特尔、摩托罗拉、AMD、IBM等企业一是成立EUV LLC联盟。押注极紫外光技术。能源部旗下的劳伦斯利弗莫尔、桑迪亚和劳伦斯伯克利三大实验室更是汇集了多个领域的技术，包含物理、化学、核武器、半导体产业、超级计算……等等领域。

光刻机的光源系统突破后，依然需要企业把它应用于产品。美国在尼康和ASML中，认为尼康吸取了精良技术后，未来将压过美国。最终只让ASML加入LLC联盟。

当然，美国也不会只有单纯让ASML加入EUV LLC 联盟。ASML必须在美国建立工厂和研发中心外，还要保证未来55%的配件都需要从美国采购。并且定期接受美国监管。

总评：

ASML的成功秘诀多样化，美国EUV LLC联盟扶植ASML，力压尼康，就是其中之一。如今ASML EUV光刻机市场率100%，离不开LLC联盟的功劳。