to靶材是什么材质

氧化铟锡( ITO ) 是由不同比例的铟、锡和氧组成的三元组合物。根据氧含量，它可以被描述为陶瓷或合金。氧化铟锡通常以氧饱和组合物的形式出现。氧饱和组合物非常典型，以至于不饱和组合物被称为缺氧 ITO。它在薄层中是透明和无色的，而在散装时它是淡黄色到灰色的。在光谱的红外区域，它充当类似金属的镜子。

铟锡氧化物是最广泛使用的透明导电氧化物之一，因为它具有导电性和光学透明性，易于沉积为薄膜，并且具有耐湿化学性。与所有透明导电薄膜一样，必须在导电性和透明度之间做出折衷，因为增加厚度和增加电荷载流子的浓度会增加薄膜的导电性，但会降低其透明度。

铟锡氧化物薄膜最常通过物理气相沉积法沉积在表面上。通常使用的是电子束蒸发或一系列溅射沉积技术。

ITO和ITO溅射靶材的物质是一样的，后者实际上是由氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合而成的黑灰色陶瓷半导体。

三种主要的最终用途来自铟金属、其合金和氧化铟锡 (ITO)。铟用于制造锗整流器、光电导体和热敏电阻。它可以蒸发到玻璃上并镀到金属上，从而形成与银制成的镜子相当的镜子，但对大气腐蚀的抵抗力更强。铟和镓都能够润湿清洁玻璃和其他物质以形成气密密封。

铟半导体化合物用于红外探测器、高效光伏器件和高速晶体管。铟的最大最终用途是薄膜涂层，例如计算机、游戏和 CD/DVD 播放器中使用的液晶显示屏 (LCD)、平板显示器、太阳能电池和电致发光灯。铟金属代表了世界经济的一个小型专业部门，在美国消费的初级金属价值超过一千万美元。参与铟生产的两家美国公司分别是位于纽约尤蒂卡和罗德岛普罗维登斯的美国铟公司。

美国最终用途分布包括 49% 的涂料、33% 的低熔点焊料和合金、14% 的电子元件和半导体，而研究和其他占 4% 的其余部分. 日本通过在其各个行业中使用超过全球产量的 50% 来消耗大部分铟。在过去十年中，日本国内的消费量增长了 1000% 以上。

预计我国在未来几年增加其出口水平，台湾也可能成为更大的氧化铟锡 (ITO) 进口国，因为它准备生产更多的薄膜晶体管 (TFT)。我国已经扩大了其锡工业，以至于在所有集约化方面，都可以被视为世界领先的生产国和出口国。