光刻机是芯片制造的核心设备，也是全球最为稀缺的高端技术之一。目前，全球只有三家公司能够生产光刻机，分别是荷兰的ASML、日本的佳能和Nikon。其中，ASML拥有超过90%的市场份额，是全球唯一能够生产最先进的极紫外（EUV）光刻机的公司。
光刻机是芯片制造中不可或缺的设备，它可以在硅片上刻画出微小的图案，从而实现芯片的功能。随着芯片工艺的不断进步，光刻机也需要不断更新，以满足更高的精度和效率的要求。目前，最先进的光刻技术是极紫外光刻（EUV），它可以制造出4纳米甚至更小的芯片。EUV光刻机非常昂贵和稀缺，只有少数几家芯片厂商能够购买和使用。ASML是全球唯一能够生产EUV光刻机的公司，它对全球芯片产业有着巨大的影响力。
然而，ASML并没有将EUV光刻机公平地提供给所有的客户。由于美国政府对中国芯片产业的制裁和限制，ASML无法向中国出口EUV光刻机。这使得中国芯片厂商无法获得最先进的光刻技术，从而落后于国际竞争对手。中国芯片产业也因此受到了严重的打击和挑战。
在这种情况下，ASML却开始向中国出售低端的光刻机，即浸润式光刻系统（TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统）。这种光刻机主要用于生产14纳米及以下工艺的芯片，但在7纳米芯片的生产上良率低，成本高，没有什么竞争力。ASML声称这是为了满足中国市场的需求和帮助中国发展芯片产业，但实际上却有着另外的目的。
ASML通过向中国出售低端光刻机来缓解自身面临的经营压力。由于疫情和供应链问题的影响，ASML最近遭遇了客户大幅削减资本支出、缩减订单的压力，特别是来自大客户台积电的订单削减逾四成并延后交货时间。这导致ASML的股价下跌，并对其2024年的业绩造成明显的压力。为了应对这一挑战，ASML正在加速拓展在中国的业务和销售，预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右，约合人民币162亿人民币。
为什么说ASML是有意打压中国光刻机工业呢？首先，我们要知道，光刻机技术是一个高度复杂和积累性的领域，不是一朝一夕就能突破的。如果中国只能依赖进口低端光刻机，就很难形成自主研发和创新的动力和能力。而且，低端光刻机也不能满足中国芯片产业对高性能、低功耗、小尺寸等方面的需求。这就相当于让中国芯片产业永远处于落后和依赖的状态。
其次，我们要看到，ASML并不是真正想要帮助中国发展芯片产业，而是想要利用中国市场来弥补自己在其他地区的损失和缺口。ASML知道自己在EUV光刻机方面拥有绝对优势，不怕任何竞争对手。所以它故意放开低端光刻机市场，让中国买家误以为自己得到了便宜和优惠。实际上，ASML是在用低价倾销自己过时和淘汰的产品，同时还可以收取高额的维护和维修费用。这样，ASML既可以赚取中国市场的利润，又可以消化自己的库存和产能，同时还可以保持自己在EUV光刻机方面的技术优势和垄断地位。
最后，我们要明白，ASML并不是中国芯片产业的真正朋友，而是一个隐形的敌人。ASML不仅受到美国政府的影响和控制，而且也有着自己的利益和战略考量。ASML不想看到中国芯片产业的崛起和发展，因为这将对其自身的市场份额和利润造成威胁。ASML也不想看到中国光刻机产业的进步和突破，因为这将打破其在光刻机领域的垄断和霸权。ASML向中国出售低端光刻机，就是为了阻碍中国芯片产业和光刻机产业的发展，维持其在全球半导体领域的主导地位。
因此，我们不能被ASML的表面善意所迷惑，也不能对其低端光刻机产生过度的依赖和期待。我们应该坚持自主研发和创新，加快国产光刻机的发展速度和水平，尽快实现光刻机技术的突破和跨越。只有这样，我们才能真正摆脱对外国光刻机的依赖，提升中国芯片产业的核心竞争力，实现芯片领域的自主可控。
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