在华为被“卡脖”后，芯片就成为万众瞩目的焦点。但要实现芯片的自给自足，似乎有一个绕不开的“大山”——光刻机。但对于自研光刻机，吴汉明院士曾发布了不同的看法，他认为，研发光刻机不是唯一目标，“中国芯”更根本的问题是要打造完整的半导体产业链。与其把注意力放在7nm生产线上，不如先实现55nm工艺的100%国产化。
关于吴汉明院士的看法，很多网友不认同，他们认为，为何中国造不出自己的EUV光刻机，这不是妄自菲薄吗？但客观来讲，自研EUV光刻机确实很难，或许5年、10年甚至20年，我们能造出来，但在那个时候，EUV光刻机不也是“过时产品”吗？没有任何意义！
众所周知，EUV光刻机是一个“集大成者”，什么意思？一台EUV光刻机，需要使用超过10万个零件，而ASML公司的供应商遍布全球，多达5000家，且光刻机中采用了各个国家的顶级技术，其中美光源和日材料分别占到了27%，德光学系统占到了14%，荷兰腔体以及英国真空则占到了32%。毫无疑问，EUV光刻机很难靠一个国家或者一家企业独立造出来。
在全世界范围内，目前只有ASML公司有生产EUV光刻机的实力，而正因为EUV光刻机采用了美光源，所以给了美断供中企的筹码。但进入2022年后，限制EUV光刻机的供货已经无法满足老美的私心。近日外媒又传出，老美向ASML公司施压，要求停止向中企供应DUV光刻机。但让人意外的是，ASML公司态度强硬，没有丝毫让步。
ASML公司官宣了未来3-4年的扩产计划，预计在2025年，ASML公司的DUV光刻机产能将达到600台，EUV光刻机的产能将达到90台！很显然，中国市场作为ASML公司DUV光刻机的主要供应市场，产能扩大到600台就间接表示，ASML公司不会停止向中企供应DUV光刻机，为何ASML公司会做出这样的选择呢？
回头来看，吴汉明院士说的没错，自研EUV光刻机确实没用，ASML公司就是个例子。正因为EUV光刻机无法独立完成研发，所以会有处处受限的情况出现，在断供EUV光刻机方面，ASML公司没有任何挣扎的余地，但DUV光刻机就不同。核心技术掌握在自己手里，ASML公司就能硬气拒绝。
而国内芯片企业由于起步较晚，聚焦于高端芯片市场也没有太大的意义，不管是EUV光刻机还是7nm先进制程工艺，都对中国科技企业来说有很大的难度。所以聚焦于55nm成熟工艺芯片市场，或许是更好的出路。
其实只要我们能够拿下成熟工艺芯片市场，就基本已经能够满足国内超9成应用的芯片使用需求了，“去美化”就能大跨步前进。有一说一，在科技圈并没有那么多弯道超车的“神话”存在，必须要一步一个脚印，踏踏实实地去走，差距既然存在，那么就不要总想着弯道超车的事情，缩小差距才是核心！在芯片领域，我们目前要做的就是先解决“卡脖”问题，后面才需要考虑“反超”的问题，别总想一口吃成个胖子！对此，你怎么看呢？欢迎评论留言！
