但如今国际市场上不断传来新消息，皆是对ASML不利的，在老美的不断压迫之下，这“垄断”的日子也不再好过了，“好日子”也渐行渐远了，这究竟发生了什么呢？ASML又该如何应对呢？
ASML遭遇的困境
根据最新的消息，台积电方面已经宣称，在年底将会关停部分EUV光刻机设备，而目的就是为了节省开支，据悉一台EUV光刻机全负荷运行，一天就要用掉3万度的电，年消耗量超过1000万度。
而这“省成本”的背后，却是反映出了目前芯片产业的困境，先进工艺绝大部分被用于智能手机等等设备上，根据统计2022年第一季度全球仅出货了3.112亿台手机，同比下滑超过了11%，第二季度继续下滑到了2.92亿台。
目前台积电有着80台EUV光刻机，而三星有着50台左右，超过90%以上的产能都在这两家企业手上，随着数码产品的出货量降低，先进芯片的需求自然也随之减少，高通、联发科等等厂商都在缩减订单。
台积电已经宣布关停部分EUV设备，说明能够给到三星的产能也将减少，这说明现有的EUV光刻机产能需求已经过剩了，需求量在降低，影响最大的自然就是靠卖设备为生的ASML了。
要知道前几个月，EUV的产能还是供不应求的，为了获取更多的产能，三星的负责人还亲赴荷兰的ASML总部，要求及时交付更多的EUV光刻机，但如今这样的转变着实让人意外。
本身受到当前形势的影响，在氖气被断供之后，ASML的实际产能已经受到了影响，无法按时交付客户订单，也让其错过了最佳的机会，面对如今市场环境的突然变化，EUV光刻机很有可能被迫库存。
而倪光南院士很早之前就呼吁：“要把重心放在成熟工艺上！”中芯在照做之后可谓风生水起，然而台积电却反其道而行，过度执着于先进工艺，如今的处境可以说越来越难了，院士的话已经应验了。
ASML该如何应对
在芯片法案还没发布之前，老美就曾找到ASML，要求其将对于芯片的限制范围，有原本的EUV范畴调整为DUV范畴，深知中国市场重要性的ASML，当面拒绝了这样的无理要求。
但也因此惹怒了老美，在全新芯片法案落地之后，就有一条专门针对ASML的限制，那就是先进工艺范畴被调整为了28nm以下，随后其负责人也正式宣布，针对中国市场的芯片设备限制，将由原本的10nm提升至14nm，很显然目的就是为了阻止DUV光刻机的进口。
受到先进工艺需求量的减少，EUV光刻机的销量肯定受影响，如果就连DUV光刻机也无法出口，那么ASML的实际经营肯定会遇到困境，毕竟中国已经成为了全球第三大光刻设备市场。
而这一次ASML负责人态度这么决绝，也足以看出问题的严重性了，此前全球缺芯缺的也是成熟工艺，而先进工艺芯片一直都是有库存的，而成熟工艺的市场需求占到了90%以上，所以这也是国内院士呼吁成熟工艺国产化的原因。
除了面对产能缩小的事实之外，ASML也不断面临着外部的压力，在中科院的领衔下，国产光刻机距离量产仅有一步之遥，而日企佳能、尼康也恢复了光刻机的研发，也宣告着ASML的光刻机并非不可替代。
而相比于研发光刻机，目前各个国家更想摆脱“光刻机依赖”，已经在新材料以及新工艺上下足了功夫，美日研发的NIL工艺，已经被证实不使用EUV光刻机的情况下，可以实现5纳米以下工艺，同样华为、台积电研发的堆叠工艺，都在影响着光刻机的地位。
除此之外光电子芯片、碳基芯片等等技术，都已经取得了重大的突破，一旦技术成功实现了商用，就意味着已经能够摆脱光刻机实现芯片制造了，所以才会说ASML的“好日子”已经渐行渐远了，对此你们是怎么看的呢？
