在射頻IC設計這個高要求、變化快的領域裏，你是不是還在因為改版圖熬到眼花？是不是面對無源網絡的無盡調試感到心力交瘁？下面四大痛點，你是否中招了？
痛點1：版圖迭代耗時，工程師效率受限
在射頻毫米波IC設計階段，大量時間被耗費在版圖修改與電磁仿真中。調研數據顯示，工程師平均有超過 70% 的設計時間用於射頻版圖的反覆迭代。漫長的迭代周期不僅降低效率，也讓創新力被消磨殆盡。
痛點2：電路與無源網絡優化脫節
當前的設計流程中，電路與無源網絡往往無法協同優化。儘管 Virtuoso 和 ADS 等軟件提供原理圖優化功能，但 泛化地實現原理圖與版圖的聯動優化依然是難解決的技術瓶頸。
痛點3：複雜無源結構設計難度高
隨着射頻IC的性能要求提升，複雜無源結構如 三電感、四電感耦合變壓器以及非對稱變壓器越來越多地出現在 ISSCC 和 JSSC 等頂級會議期刊中。這些結構的設計難度高，現有手工方式難以高效且精準地完成。
痛點4：射頻IP復用性差
射頻IP的跨平台復用性低。一旦切換工藝平台或調整工作頻段，射頻版圖 幾乎需要從頭迭代設計，導致資源和時間浪費，制約了設計成果的廣泛應用和推廣。
針對上述射頻IC設計中的痛點，廣州十方尺科技有限公司推出了 AI 輔助射頻IC設計自動化工具——RFI Pro，它能全面覆蓋從有源電路到無源版圖的協同優化，通過全流程自動化解放工程師的雙手！
RFI Pro有什麼亮點？
亮點1：AI驅動的版圖與原理圖協同優化
AI自動生成變量組合、版圖更新、仿真迭代，全程無需人工干預。支持實時結果輸出，變量、版圖信息和目標評分一目了然，讓設計流程更加高效透明。
無論是原理圖結構、優化變量選擇，還是版圖結構定義與運動方式選擇，都具備極強的泛化能力。支持靈活多樣的優化目標，可實現電路級優化，覆蓋絕大多數射頻 IC 設計需求，讓設計過程更加智能高效。
亮點2：全面的版圖閱讀和修改能力，靈活定義專屬Pcell
用戶無需編寫代碼即可創建 Pcell！通過直觀的圖形界面，在用戶提供的初始版圖基礎上，只需選擇運動類型和方向，然後用鼠標點擊需要調整的金屬，即可輕鬆自由地定義版圖運動。
比如：在R模式下點擊一下版圖中的金屬就可以在下面Interleaved變壓器中分兩次選中不同的兩個電感。（後面就可以一起改半徑了！）
RFI Pro內部集成了強大的幾何引擎、DRC引擎和LVS引擎，自動避障跳線也不在話下！
亮點3：與Virtuoso以及EMX無縫銜接
為了方便用戶使用，整套 RFI Pro 的前端被設計成 Virtuoso 的軟件插件。前端界面如下：
所有功能的定義和操作都在一個主界面上，是不是很清晰？保證您能在半小時內快速上手！
以下設計案例展示了如何在手工設計的電流復用LNA整體版圖基礎上，通過RFI Pro進一步優化輸入端的三電感耦合變壓器，從而進一步降低電路的噪聲係數。
下圖給出了優化前和優化後的NF對比，可以看到，最小NF在原本1.63dB的基礎上又改善了0.12dB!
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www.sephonchitech.com
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同時，我們也希望通過這樣的方式，讓更多朋友了解我們的產品和理念。我們的目標是成為國內最貼近客戶需求的 EDA 公司，為每一位 IC 設計師提供高效且貼心的服務。客戶的支持是我們不斷前行的動力，這也是我們始終堅持的宗旨。
