在芯片領域我們已經發展多年，華為海思，紫光集團，中芯國際以及長江存儲等等多家半導體企業為中國的芯片助力成長，並且提高了我國國內芯片供應鏈體系自助化，這是不一樣的，是這些半導體企業都是基於傳統硅技術所展開研發的。
摩爾定律即將失效？
傳統的材料是以硅為原材料的，從沙子中提取最高純度的硅材，將硅製作成為晶圓硅片，之後再送去晶圓製造廠，將其加工成為芯片集成電路。最後經過一系列的封裝測試等等，再將芯片搭載到電子設備之上，這就是一片芯片一生的命運。
也就是說這些流程的源頭是硅，可是如今先進的硅技術掌握在國外企業手中，光刻機，材料以及零部件等等，我們都特別依賴於國外企業，這就使得在全球範圍內，以及我國產業鏈之中沒有辦法離開國外的技術，如果說不使用硅的話，那麼就需要重新去尋找芯片製造材料。那如果真的是這樣的話，是不是就能夠重新塑造產業鏈？完全不含有對方技術呢。
石墨烯晶圓芯片
比如說前段時間中科院突破的石墨烯關鍵技術，石墨烯作為製造芯片的材料能夠加工成碳基芯片，理論上來看的話，同等製程性能比起傳統硅基芯片要強十倍。而目前中科院已經突破了關鍵技術，並且成功亮相了八英寸石墨烯晶圓。這對於我們來講絕對是一個天大的好消息。
我們都知道傳統的硅芯片發展是嚴格按照摩爾定律來的，如今最先進制程的芯片是由台積電所生產的5納米芯片，而3納米以及2納米也在不斷研發之中，這就代表着芯片的發展規律已經無限接近摩爾定律的極限。那麼在摩爾定律達到極限之後，芯片將會何去何從將會成為一個問題。
而現在的硅基芯片都是需要光刻機來製造的，5納米芯片是需要極紫外光，也就是我們所說的EUV光刻機才能夠製造，也是先進制程的芯片，對於光刻機的需求就越大，但以國產光刻機 的水準，想要達到EUV的水準還是比較困難的。需要在光刻機領域之上完成完全的國產化任務，就花費幾十年甚至更多的時間，要知道國外當初就是花了幾十年時間才研究出這種EUV光刻機。
如果說將幾十年時間都花費在光刻機上，到最後還是不能夠研發出這種EUV光刻機，那麼對於我們來講將會是一種巨大的損失。但如今石墨烯，晶圓的兩項給我們帶來了一些希望。這種石墨烯晶圓對於光刻機沒有太多的要求，未來外界認為是不需要光刻機也能夠製造出來的芯片。
沒有光刻機也能製造芯片？
不過就目前芯片市場的本質來看一下，離開光刻機製造芯片還是比較困難的。但如果碳基芯片真的能夠達到理論上與同等製程硅級芯片十倍的性能，那麼DUV光刻機所造出來的芯片就能夠取代EUV所造出來的芯片。
而我們在DUV光刻機上，還是能夠取得一定突破的，在十幾年的發展之中，我們並不是沒有自己的成就，從而2020年開始到現在中國芯片頻繁傳來捷報，而此次中科院傳來好消息，讓人興奮不已。
除了中科院之外，還有很多值得振奮人心的好消息，比如天數智芯片自研了7納米 GPGPU訓練芯片，大族激光自研的光刻機已經實現小批量出售，西湖大學研究出冰刻三維微納加工技術，以及華為海思自研了GB獨顯芯片等等。
這一切的一切都證明着中國芯片在不斷地取得進步，即便是在光刻機領域，值班費科院也早就已經宣布要入局。如果說我們將來真的能夠利用這種石墨烯晶圓芯片擺脫對於國外光刻機的束縛，那麼在將來的發展之中，我們一定能夠取得先機。芯片行業發展了幾十年，在技術上一直都有值得我們學習的地方，而中國的芯片一直在朝着自研的方向發展。即便目前我們前面危險重重，但相信有這些優秀的國產企業存在，即便是再大的難題我們也能夠迎刃而解，此次中科院可以說是我們最大的功臣了。
