唯一打入台積電7納米製程蝕刻設備的大陸本土設備商，就在長三角

今天上午，第一屆長三角一體化創新成果展在蕪湖開幕。記者走進展廳先睹為快，了解這些重量級成果背後的故事。

項目名稱：28到7納米等離子體介質刻蝕設備，金屬有機化合物氣相沉積設備

展示主題：高端製造在長三角示範應用

「我國正在成為集成電路芯片和微觀器件生產的大國，到2020年，在我國新的芯片生產線上的投資將會超過美國、日本和韓國等地區的投資，中國會變成一個最大的芯片生產基地。我們相信到2030年，我國的芯片和微觀器件的加工能力和規模一定能完全趕上並在不少方面超過國際先進水平。」中微半導體設備（上海）股份有限公司董事長兼首席執行官尹志堯博士曾在公開場合這麼說。

去年3月，中央電視台大型紀錄片《大國重器》第二季第六集中，來自中微的7納米芯片刻蝕機榮幸被收錄其中。

現階段半導體產業能量產的最先進的工藝節點是7nm，台積電全面領先。在7納米製程設備方面，囊括了5大設備商包括應用材料(Applied Materials)、科林研發(LAM) 、東京威力科創(TEL)、日立先端(Hitach)、中微半導體。中微是唯一打入台積電7納米製程蝕刻設備的大陸本土設備商。

而央視收錄的，正是中微，也是中國自主研發的第一批7納米芯片刻蝕機，它採用的是等離子體刻蝕技術。利用有化學活性的等離子體，在硅片上雕刻出微觀電路。

據介紹，中微自主研發生產的等離子體介質刻蝕設備已達到國際先進水平，已應用於65納米到14納米、7納米和5納米的集成電路生產線。由於中微等離子體介質刻蝕設備成功進入海內外市場，美國商務部在2015年2月宣布，將刻蝕機從美國對中國的出口控制清單上移除。在創新性保護方面，截至2019年4月底，中微的刻蝕設備已申請國內外專利共1053項，其中759項已獲授權。

中微公司及其所研發的高端芯片製造設備先後60餘次在國內外獲得知名獎項，包括行業權威《Semiconductor International》（《半導體國際》）雜誌頒發的「2009年全球最佳產品獎」，上海市政府頒發的「2009年度上海市科技進步獎一等獎」，「第十六屆中國國際工業博覽會金獎」等。

金屬有機化合物氣相沉積設備（MOCVD）是半導體發光器件和功率器件等外延芯片生產中最為關鍵的設備。中微MOCVD設備的研製成功、實現國產化，填補了我國一項重要的空白。中微公司自主研發生產的MOCVD設備Prismo A7已在國內藍綠光半導體照明芯片製造領域佔據主流市場地位。中微的MOCVD設備已廣泛應用於包括蘇、浙、皖地區在內的多家LED芯片製造企業，有利地推動了長三角區域半導體照明產業鏈的發展。

作者：王星

編輯：趙征南

責任編輯：付鑫鑫