中微半導體設備公司1月8日在上海證券交易所公布一項減持計劃，公司創始人尹志堯準備賣掉不超過29萬股股票。這部分股份占公司總股本的0.046%，按照1月9日收盤價336.68元來算，價值大約9764萬元。
尹志堯在公告里說，這麼做是因為他從外籍身份變回中國籍，需要依法處理稅務事宜。公司強調，這次減持不會動搖控制權，也不會影響正常運作。尹志堯現在持有415.94萬股，佔總股本0.664%，這些都是上市前拿到的股份。
尹志堯這次減持從公告後15個交易日開始，持續三個月，用集中競價方式進行。市場人士覺得，這種減持規模不算大，只佔他個人持股的7%左右。考慮到國籍變更帶來的稅務調整，這更像是個人財務操作，不會傷到公司根基。
中微公司股價在公告後小幅波動，但整體穩住，總市值保持在2108億元。尹志堯過去一年減持過一次，2025年5月到8月賣了17萬股，拿到3121.63萬元，那時理由是個人資金需求。
尹志堯職業起步於1984年，在英特爾中心技術開發部當工藝工程師，到1986年。他在那學到半導體製造核心技術，參與工藝集成。1986年跳槽到泛林半導體，從資深工程師干到研發部經理，幫公司開發彩虹號電容性介質刻蝕機，提升了市場競爭力。1991年去應用材料公司，當等離子體刻蝕設備首席技術官，後來升副總裁，管事業群，還負責亞洲技術事務。在硅谷20年，他申請了86項美國專利和200多項國際專利，推動刻蝕技術進步。
2004年，尹志堯帶着15人團隊回上海浦東創辦中微公司，當董事長和總經理。起步時資金有政府支持的5000萬元，加上團隊150萬美元。初期專註等離子體刻蝕設備，2007年推出第一代CCP介質刻蝕機，填補國內空白。這設備用雙反應台設計，效率比國際同類高30%。尹志堯帶領團隊避開專利壁壘，開發原創技術，幫助公司站穩腳跟。
中微公司逐步擴大產品線，2012年出電感性等離子體刻蝕設備Primo nanova，用在14納米以下工藝。還開發深硅刻蝕設備，針對先進封裝和MEMS。2010年起進薄膜沉積領域，推出MOCVD設備，三代產品用於LED和功率器件，市場份額領先。尹志堯推動技術從65納米覆蓋到5納米，2015年提皮米級精度概念，開發CCP和ICP刻蝕機。
2018年，中微自主刻蝕機進入客戶5納米產線。到2025年，推動MOCVD、LPCVD、ALD、EPI、PEVCD等薄膜設備，ICP雙反應台精度到0.1納米，達到全球先進水平。公司年報顯示，尹志堯國籍變化：2022年是美國公民，2023年沒提，2024年確認中國籍。2024年6月公告還標美國籍，8月改成中國籍。這變更引發稅務需求，導致這次減持。
中微公司2025年前三季度營業收入80.63億元，同比增長46.4%，凈利潤12.11億元，增長32.66%。刻蝕設備收入61.01億元，薄膜設備4.03億元。研發花了25.23億元，占營收31.29%，支持20多款新設備開發。公司申請專利2407項，發明專利超84%。尹志堯獲過2018年國際半導體十大領軍明星和2020年中國最佳CEO榮譽。
尹志堯在硅谷幫應用材料和泛林成為行業老大，回國後中微成長為全球第四大刻蝕機企業。2023年11月，公司設備用於65到5納米生產線。公司定位高端設備，覆蓋集成電路和泛半導體。尹志堯專註原創設計，與國際客戶同步合作，推動國產替代。
