在光刻機領域當中，荷蘭的ASML公司，可謂是有着很強的技術實力，這個比原子彈還難製造出來的光刻機，用專家的話來說，是不能夠自己研發出來的，因為我國在光刻機領域當中，還是面臨著很高的技術壁壘。
近年來，華為企業的發展，可以說是非常的迅速，尤其是華為在5G領域當中所取得的成就，也是有目共睹的，而不少西方國家，也針對華為企業的發展，採取了不少的制裁措施。
就當華為企業被西方國家所制裁和打壓之後，也就陷入了很大的發展困境當中，但同時，也讓不少人知道，手中有着技術實力的重要性。
如果說，華為企業在芯片領域當中，並不會受制於人，並且也不會出現卡脖子局面的話，那麼無論美國怎樣實施打壓和制裁，華為企業都將會進行有力的反擊，可正是因為華為企業短板的暴露，讓美國抓到了華為發展的痛點，並且予以最深的打擊。
要知道的是，我國在芯片領域當中的研發時日，相比較於美國來說，的確是會比較的晚一些，這也就導致，我國在芯片領域當中，出現了被卡脖子的局面，芯片斷供政策一旦實施之後，除了華為企業受到打擊之外，國內的眾多科技企業也受到了不同程度的影響。
想要將芯片製作出來的話，則必然是離不開光刻機，有不少網友認為，其實中國是完全可以自主研發光刻機的，因為中國目前整體的實力還是非常可喜的。
然而，我國在中低端光刻機當中，的確是能夠取得一定的成就，但由於缺少了高端光刻機的製造經驗，這也就導致，我國在高端光刻機領域當中，沒有辦法實現很好的發展。
在此前，我國的中芯國際就已經向荷蘭ASML公司，訂購了一台光刻機，可是這一台光刻機卻因為美國的阻撓，從而導致遲遲都沒有辦法交付。
一旦有了光刻機的話，國內芯片製造就不會出現很大的難題，華為企業所深陷的困境，也將會得到最大的解決，儘管華為企業已經將自己的訂單量，交到了中芯國際的手中，中芯國際也將會如期的交付，但中芯國際缺少了這個高端光刻機之後，所交出來的芯片，則必然會是中低端的芯片。
畢竟，在高端光刻機領域當中，荷蘭ASML公司也基本上是已經形成了其壟斷地位，荷蘭ASML公司之所以會在高端光刻機領域當中，有着這麼強的發展優勢，也是和當時台積電的林本堅有着一定的關係。
在ASML公司並沒有在光刻機領域當中發展的時候，一直都是日本的光刻機企業取得不錯的發展成績，由於當時林本堅所提出的浸潤式光刻機概念，與日本的乾式光刻機產品概念有着一定的衝突。
後來，林本堅也就找到了荷蘭ASML公司，兩者之間達成了合作，這才進一步的促成了荷蘭ASML公司，在光刻機領域當中的初步發展。
在那之後，荷蘭ASML公司也是有着長遠的發展目光，為了能夠穩定其客戶，也為了能夠在市場當中拿下更多的份額，所以就有了一個規定，那就是，任何企業想要向ASML公司訂購光刻機的話，都必須要先購買ASML公司的股份。
而在當時，英特爾、台積電以及三星，便是荷蘭ASML公司的穩定客戶，也是ASML公司的三大股東。
但隨着ASML公司不斷發展，以及規模不斷龐大起來之後，英特爾、台積電以及三星，都相繼拋售出手中所擁有的ASML公司股份，截止到目前，美國有兩家公司，已經成為了荷蘭ASML公司的股東。
值得一提的是，荷蘭ASML公司在製作光刻機的時候，不斷的去提高技術壁壘，ASML公司的員工還認為，哪怕是將圖紙交給各國的企業，那麼各國企業都不一定能夠將產品研發出來，因為這背後所運用到的，就是各國的先進技術，裏面的許多零部件，也是來自於多個國家和地區的。
而ASML公司所擁有的，恰好就是其中的核心技術，現在荷蘭ASML公司又採用了美國的光源，以及德國的蔡司技術，這又進一步的加大了高端光刻機攻克的難度。
在我國面臨著高端光刻機難題的時候，就有人認為，中國完全可以自主研發，但事實上，用專家的話來說，中國目前還是並沒有辦法，去研發出高端光刻機的。
之所以專家會有這樣的想法，也是因為高端光刻機的背後，所運用到的科學技術是非常的複雜，比如說，當ASML公司製作高端光刻機的時候，除了運用到了德國的工藝技術之外，還會運用到日本的複合材料，以及現在的美國光源。
而作為高端光刻機製作者的人才，也必須要具備着許多的工業知識的支持，其中就包括了物理學、數學以及計算學等，這對高端光刻機人才有着很高的要求。
但我國目前，在人才方面仍然會出現人才儲備不足的情況，人才流失也會比較的嚴重。
此前，ASML公司的三星、台積電以及英特爾這三大股東，所拿下的高端光刻機可以說是非常的多，而我國的企業想要購買到光刻機的話，也必須要等這些股東不需要用上的時候，才能夠輪到我國的企業，否則的話，這些先進的光刻機並不是我國企業所能夠輕易搶到的。
如果，中國想要自主研發高端光刻機，不僅僅是會很難攻克高端光刻機的技術壁壘，在接下來，還會面臨著來自台積電、三星以及英特爾的「特別關注」。
不過，我國雖然是不能夠自主研發出高端光刻機，但是在光刻機領域當中，仍然是會有好消息傳出，上海微電子在90nm光刻機研發出來的消息傳出之後，便能夠極大程度上，給到國內其他企業更大的信心。
除此之外，國內的中科院，也已經將超分辨光刻機設備研發出來了，目前所能夠達到的研發芯片，已經是10nm工藝進程。
儘管，這和荷蘭ASML公司相比，的確是還有着一定的差距，但從我國在芯片領域以及高端光刻機領域當中，相繼傳出好消息之後，便足以看出，我國在半導體領域當中，還是有着一定的實力，並且未來也將會有着很大的進步空間。
然而，對於我國在芯片領域當中短板的暴露，以及想要更快在芯片領域當中，彌補缺陷的話，便要做到以下幾點：
第一點，要有着足夠充分的人才儲備，人才以及科學技術實力都是非常的重要，而高端光刻機的研發，本身對人才的要求也是非常的高，如果想要攻克高端光刻機其中的相關技術，便一定要對人才有更多充分的培養。
國內的各大高校，也已經建立了集成電路學院，這能夠更好的為半導體領域發展輸入更多專業性的人才，但這些專業性的人才，要想留下來的話，仍然是離不開社會各方面力量的推動。
科技企業必須要給到足夠好的待遇，而國內各大高校在培養人才的時候，也要積極的呼籲這些人才留在國內，為國家的發展作出貢獻。
第二個，想要攻克高端光刻機的技術壁壘，還需要不斷加大研發和投入，加大研發和投入，是能夠將自主研發光刻機這條道路，走得長遠的必要保障。
無論是上海微電子還是中科院，相繼傳出的這些好消息，都足以看出，我國在社會發展起來之後，經濟水平也已經有所提高，國內科技企業的自主創新程度，也已經有所加強，在許多領域當中，其實也是取得了非常不錯的成就。
儘管，和一些頂尖技術相比，還是會有着很大的差距，但是一旦國內的科技企業繼續加大研發投入的話，相信將會取得更加好的成績，並且不斷的縮小差距。
研發和投入力度越大，便會有更多的希望，在芯片領域以及光刻機領域當中，才會有更多的研發和創造經驗，因此，對研發和投力度也是千萬不能忽視的。
第三個，國內相關政策還應該要更多的傾斜於半導體領域當中，芯片領域當中短板的暴露，所帶來的影響可以說是非常的大，無論是從華為企業被芯片斷供政策所影響之外，還是中芯國際被實體黑名單點名，足以看出，國內科技企業的發展道路是十分的艱難以及坎坷的。
國家相關政策的扶持，可以給到這些科技企業，更多的發展動力以及發展希望，不然的話，國內科技企業在看不到希望的時候，很容易出現放棄的可能，這也將會不利於國內在半導體領域當中的發展。
總而言之，這種比原子彈還要難製造出來的光刻機，中國目前還是不能夠自主研發出來的，但相信只要給足中國科技企業，一定的發展時間，以及給予他們更多的信心，便會不斷地縮小與巨頭科技企業之間的距離，光刻機的製造也將會指日可待。
