ASML表示仍然在不斷加大EUV光刻機的產能，但是它也表示擔憂未來3年EUV光刻機將出現過剩，面對可能出現過剩的前景，它仍然計劃大舉增加EUV光刻機的產能，目的可能是為了爭取未來兩三年實現自由出貨，給中國大舉供應EUV光刻機。
ASML給出的EUV產能規劃顯示今年的EUV光刻機產量將提升至55台，預計到2025年的產量將達到90台，如此大幅增產可能會導致EUV光刻機產能過剩的結果。
由於眾所周知的原因，ASML當前無法給中國供應EUV光刻機，全球諸多芯片製造企業當中格芯和聯電都已停止研發7nm及更先進工藝，如此需要EUV光刻機的企業就只剩下Intel、台積電和三星。
台積電和三星當前計劃在下半年量產3nm工藝，它們更先進的2nm工藝則需要第二代EUV光刻機；Intel的Intel 4工廠已完成EUV光刻機等設備的安裝，更先進的Intel 20等工藝也需要第二代EUV光刻機。它們接下來對EUV光刻機的需要主要用於增加產能，這意味着這三家芯片製造企業對EUV光刻機將大幅下降。
台積電從2017年開始採購光刻機，至今也不過採購了79台EUV光刻機，而它已取得全球超過五成的芯片代工市場，ASML卻計划到2025年實現年產90台EUV光刻機，如此情況下僅靠台積電、三星和Intel消耗這些EUV光刻機產能已不現實，EUV光刻機很可能將出現產能過剩。
ASML在明知EUV光刻機可能產能過剩，仍然大舉擴張EUV光刻機，在於它迫切希望回收研發投資，據悉它研發EUV光刻機的投入高達400多億，至今給台積電、Intel和三星供應的EUV光刻機獲利相當有限，而第二代EUV光刻機將在2024年開始投產，因此它迫切希望在這有限的3年多時間裏再銷售一波EUV光刻機以增加利潤。
可是正如上述，Intel、台積電和三星需要EUV光刻機的先進工藝已經基本完成投資，接下來採購EUV光刻機不過是增加產能罷了，對EUV光刻機的需求將大減，可以推測ASML仍然大舉擴張EUV光刻機的產能應該就是為了未來數年向中國出口。
中國對光刻機的需求幾乎是噴髮式的，在這三年時間，中國大舉擴張芯片產能，全球的光刻機根本就無法滿足中國的需求，導致中國不得不大舉從日本採購二手光刻機，由此日本的二手光刻機價格暴漲兩倍，但是仍然無法完全滿足中國的需求，可以看出中國對光刻機的需求量多麼龐大。
中國芯片製造企業已為7nm工藝技術進行數年的儲備，時刻準備着推進7nm乃至更先進工藝的量產，一旦ASML獲得許可給中國供應EUV光刻機，那麼中國將會大規模採購，正如此前大陸採購日本二手DUV光刻機一樣，而這也是ASML賺EUV光刻機最後一波利潤的機會，如此也就不奇怪ASML當下大舉擴張EUV光刻機產能了。
目前全球芯片市場已發生重大變化，從此前的供給不足向供給過剩轉變，美國諸多芯片企業都被傳出芯片庫存水平超出正常水平，因此紛紛祈求中國企業採購更多芯片，某模擬芯片龍頭甚至大舉降價近九成求中國企業採購，可見當下芯片行業過剩的現象已趨於嚴重。
如今ASML大舉擴張EUV光刻機，Intel、台積電和三星三大客戶卻已無法啃下如此大量的EUV光刻機，ASML也有可能如美國芯片那樣祈求中國芯片，可謂異曲同工，想當初它們多麼高傲，如今卻又如此低姿態，這對比未免也劇烈了些。
