最近，全球唯一能生產EUV光刻機的設備製造商，荷蘭ASML的首席財務官羅傑·達森（Roger Dassen）在公布第三季度財報時表示：ASML可以在沒有美國許可證的情況下從荷蘭向中國出口DUV（深紫外）光刻機，但涉及到直接從美國向客戶發送貨物或零件，則還需申請許可證。
前一句話我們大概立刻能懂，儘管DUV光刻機是上一代技術產品，但它覆蓋了96nm - 7nm 芯片工藝製程，如果能順暢為我們提供產線設備支持，這當然會是非常振奮的好消息。
但後一句話，筆者暫時未能清晰理解。
if the relevant systems or parts are exported from the United States, the equipment still needs to be licensed by the United States。
翻譯過來就是：如果相關係統或部件是從美國出口的，該設備仍需獲得美國的許可。
我想大概是ASML的CFO為自己太滿的話，做一些緩衝的找補吧。
DUV光刻機同樣使用了大量的美國技術
1994年ASML的市場份額只有18%。其主要對手是日本的尼康和佳能。
1997年Intel和美能源機構共同發起成立了EUV LLC，匯聚了美頂級的研究資源和芯片巨頭，包括勞倫斯利弗莫爾實驗室、勞倫斯伯克利實驗室、桑迪亞國家實驗室三大國家級實驗室，聯合摩托羅拉、AMD等企業，集中數百位頂尖科學家，共同研究EUV光刻技術。
ASML為了獲得美方的技術，寫下保證書：55%零部件會從美國供應商處採購，並主動接受美方定期審查。這是世界光刻機格局重大的轉折點。
美不僅向ASML注入了資本，還注入了大量技術。ASML被容許收購了美系掩罩技術龍頭Silicon ValleyGroup、美系光刻檢測與解決方案玩家Brion、美系紫外光源龍頭Cymer等公司。ASML 已經融入了眾多美系技術。
後來的事情我們都知道了：2010年ASML推出第一台EUV光刻機NXE：3100。自此，ASML成為全球唯一一家能夠設計和製造EUV光刻機設備的廠商，成為超高端市場的獨家壟斷者。
DUV光刻機如何繞過美系技術的門檻呢？ASML的財務沒給我們太多的解釋。
4G時代，與華為合作的典範荷蘭電信KPN，在5G時代選擇了愛立信
荷蘭電信公司KPN擁有約34％的市場份額，在4G時代，與華為保持着卓有成效的關係。
2014年，華為贏得了提供KPN 2G，3G和4G核心網絡建設合同，而且，KPN還採用了華為的軟件代替傳統的CRM和計費系統，使之成為華為的經典成功案例。
但即使這樣，荷蘭的電信運營商，依然沒有頂住美方的壓力，只能選擇愛立信為其5G核心網絡的基礎設施提供商。這是一項為期五年的協議，愛立信已同意向荷蘭主要電信公司提供其雙模5G核心軟件，該軟件將構成KPN 5G Standalone（SA）產品的骨幹，並提供集成和支持服務。
這說明，荷蘭的抗壓能力還是不能太過於寄望。2019中芯國際向ASML購買了一台EUV光刻機，因為眾所周知的原因，至今未收到貨。
晉華事件中，美廠商決然撤場後，ASML沒有放棄商業道德
2018年10月，一紙禁止令後，晉華被列為出口管制清單中，30天後，美系設備、材料等供應商全面撤出，包括機台安裝、協助生產等動作也立刻停止，之後傳出連非美系的供應商也撤出，整個 12 寸廠房呈現停擺狀態。
反而是光刻機巨頭 ASML 並未如外傳撤出，仍在默默支持，奉守着我們記憶中歐洲知名企業應有的商業道德，ASML 當時表示，會在符合各種法規要求的前提下，正常支持客戶。
在過去的20年中，ASML在中國迅速發展。目前ASML在中國已有700多台光刻機的裝機，幾乎所有主要芯片生產廠商都有ASML的服務。
根據ASML發布的財務報告，ASML光刻機的凈銷售額在2020年第三季度達到31億歐元，而中國大陸市場佔21％。
今年5月，ASML與無錫高新區簽署了戰略合作協議，以擴大和升級無錫高新區的ASML光刻設備技術服務（無錫）基地。在此之前，ASML已在北京，上海，深圳，無錫等地開設了分支機構，為客戶提供服務和諮詢。其中，深圳是ASML在亞洲最大的軟件研發中心。
毫無疑問，ASML是科技全球化的最具典範的受益者，光刻機彙集了世界上精密光學、精密運動、高精度環境控制等多項先進技術，ASML的供應商也有來自大陸的企業。ASML 的商業誠意應該是毋庸置疑的。
光刻機的重要性眾所周知，自主發展之路是我們必須經歷的
光刻機設備是所有半導體設備中複雜度最高、精度最高、單台價格最高的設備，也是現代工業的集大成者。可以說，年產值幾百億美元的半導體設備支撐了年產值幾千億美元的半導體製造產業，而ASML幾乎主導了整個高端光刻機設備市場。
尤其是EUV光刻機，隨着中芯國際接近7nm製程，如果沒有EUV技術，國產芯片製造，將無法在未來向先進工藝形成突破。EUV 光刻機是延續摩爾定律的關鍵以及現階段最優解，而且改善空間巨大。EUV是多方頂尖研發合作的產物，技術壁壘極高，短期國產化可能極低。
目前，在半導體領域針對我們的各種封堵，反而在助推我國半導體產業的自立與發展。在龐大的半導體供應鏈上，我們有1000多家新興的半導體相關公司。2019年，在科技逆全球化的氛圍里，大陸的晶圓市場規模仍以22%位居世界第二。
作為 集成電路製造過程中的核心設備，光刻機起到至關重要的作用， 芯片廠商想要提升工藝製程，就必須要向ASML購買光刻機，全球知名的芯片廠商英特爾、三星、海力士、台積電、聯電、格芯等都是ASML的客戶。
我們必須要有自己的光刻機，或者必須擁有能夠制衡外域可恣意實施科技封堵的自主光刻技術。
結語
在當前局勢下，實現光刻機的國產替代勢在必行，具有重大戰略意義。在02專項光刻機項目中，設定於2020年12月驗收193納米ArF浸沒式DUV光刻機，其製程工藝可以覆蓋28納米以上。考慮到此項目作為十三五目標，未來具有較大的明確性，結合28nm作為當前關鍵技術節點的性能和技術優勢，期待，我們的國產光刻機能儘快打破國外巨頭完全壟斷的局面，實現從0到1的突破。
